[实用新型]用于具备屏蔽功能的洁净室的逃生门有效

专利信息
申请号: 200820217864.9 申请日: 2008-11-12
公开(公告)号: CN201326353Y 公开(公告)日: 2009-10-14
发明(设计)人: 耿佐力;陈江浩 申请(专利权)人: 江苏苏净科技有限公司
主分类号: E06B5/10 分类号: E06B5/10;E06B5/18
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人: 孙仿卫
地址: 215011江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 具备 屏蔽 功能 洁净室 逃生
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及用于洁净室的逃生门,该洁净室同时具备电磁屏蔽室的功能。

背景技术

电子工业的迅速发展使得各种各样的电子设备得到了广泛的普及和应用,它们在方便人类工作的同时也释放出大量的电磁辐射。大量的电磁辐射一方面会危害人们的健康,另一方面也会干扰其它电子产品内部微电流的控制信号,使某些精密电子设备的操作系统出现失误或瘫痪。此外,电磁辐射的发散性还给信息安全带来了隐患,计算机等科研设备在工作时会通过电磁波将有用的信息泄露出去,导致信息泄密,有可能造成政治、经济、国防等方面的重大损失。

另一方面,随着微电子、半导体、精密机械等制作领域的技术不断升级,对洁净室内的空气洁净要求不再仅仅满足于尘埃粒子、细菌、温度、湿度、压力等参数达到要求,还进一步对噪音、振动、高纯度水气、静电辐射等方面的洁净程度提出了更高的要求。这就要求传统的洁净室具有屏蔽辐射的能力,或者需要令传统的屏蔽室同时具有洁净室的功能。

电磁屏蔽的基本技术原理是:用金属屏蔽材料将电磁干扰源封闭起来,使其外部电磁场强度低于允许值的一种措施;或用金属屏蔽材料将电磁敏感电路封闭起来,使其内部电磁场强度低于允许值的一种措施。

洁净室和屏蔽室建造属于不同的技术领域,传统电磁屏蔽室尤其是目前常见的土建厚墙配置钢框的钢板式屏蔽结构,门厚墙厚,施工难度大,建造周期长,而且成本高。若要在这种屏蔽环境中建立洁净环境,其所需的费用以及建造难度是可想而知的。换个角度,若要在洁净室中建立独立的屏蔽室,其难度同样很大,这是因为洁净室内的各种管道、过滤装置、接缝等处的工艺处理具有比较特殊的要求,通常无法满足屏蔽室所要求的屏蔽连续性,难以实现屏蔽功能。

在此背景下,若能设法令通常的洁净室也具备电磁屏蔽的功能,将极大降低建造成本。为了达到这一目的,可以将洁净室的墙体采用导电且导磁的材料制造,使其形成一个完整连续的屏蔽壳体。但除了墙体之外,对于洁净室的每一个组成部件都必须进行特殊的电磁屏蔽处理,此工艺的难度远远超过建造屏蔽壳体的难度。

对于普通的洁净室,由于其正常出入通道的复杂性,通常都在墙体上设置有逃生门,此逃生门直接连接至建筑物的紧急逃生通道,但普通的屏蔽室是不具备逃生门的。

而对于本实用新型所涉及到的同时具备屏蔽与洁净功能的洁净室来说,为了实现洁净功能,它具有结构复杂、曲折的出入口,同时为了实现屏蔽功能,其大门的结构远比普通洁净室复杂。

工作人员处于此类洁净室内时,由于整间房间的密闭性,可能会产生恐慌不安的心理障碍。因此需要跟普通洁净室一样,在墙体上设置用于紧急逃生的安全门装置,该安全门必须与屏蔽壳体连为一体,共同起到电磁屏蔽的作用。此门平时处于常闭状态,但当遇到紧急情况时,需要能够迅速打开,供人员逃生。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种用于洁净室的逃生门,该逃生门必须具备电磁屏蔽功能,使得整间洁净室同时起到电磁屏蔽室的作用。

本实用新型所采取的技术方案是:

一种用于具备屏蔽功能的洁净室的逃生门,该逃生门具备嵌在所述洁净室的屏蔽壳体内的玻璃。所述玻璃为屏蔽钢化玻璃。所述逃生门还包含一用于将所述玻璃固定在所述屏蔽壳体内的环状金属框架,该框架的整圈外边界均与所述屏蔽壳体相能导电地接触、整圈内边界均与所述玻璃相能导电地接触。

所述的框架为铝合金型材。所述框架具备一槽口面朝所述框架的环内圈的环状凹槽,所述玻璃嵌在所述凹槽内,在所述玻璃与所述凹槽的槽壁间夹有用于密封的导电橡胶条。所述框架具备一槽口面朝所述框架的环外圈的U形槽,所述屏蔽壳体嵌在所述U形槽内,在所述玻璃与所述U形槽的槽壁间填充有用导电密封胶。

所述逃生门还包含一能将所述玻璃敲碎的锤子。

所述框架的整条外边界与所述屏蔽壳体通过满焊相固定连接。

由于上述技术方案的运用,本实用新型具有如下优点:

1、提高了在屏蔽洁净室内的工作人员的人身安全系数,在事故发生时提高了人员的施救速度和获救率。在洁净室正常工作时,能降低工作人员的心理恐慌和担忧,为他们提供更好的工作环境。

2、同时满足屏蔽及洁净的双重要求,不会影响整间屏蔽洁净室的功能。

3、安装方便,容易实现模块化批量生产及安装。

附图说明

附图1为本实用新型的主视图;

附图2为附图1的A-A向剖视图;

附图3为附图2的局部放大视图。

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