[实用新型]一种新型镀膜凹版版辊无效

专利信息
申请号: 200820200296.1 申请日: 2008-09-09
公开(公告)号: CN201329707Y 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 秦学锋 申请(专利权)人: 东莞东运机械制造有限公司
主分类号: B41N1/16 分类号: B41N1/16;B41N3/00
代理公司: 东莞市新南方专利商标事务所 代理人: 王 敏
地址: 523000广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 镀膜 凹版
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及印刷设备领域,特指一种新型镀膜凹版版辊。

背景技术

印刷时,从墨槽出来的版辊在与承印材料接触之前,一定要用刮刀刮去版辊表面的油墨。由于刮刀作用会对版辊版面的图案纹理产生磨损,使印版的耐印力下降。所以一般要在加工好印版图案的滚筒表面再镀上一层保护膜,镀保护膜的目的是为了提高版辊表面的硬度,保护印版图案,从而提高版辊的使用寿命。

传统印刷用的保护膜一般是电镀铬,但是电镀铬生产中要大量使用强酸,强碱,盐类和有机溶剂等化学药品,在作业过程中会散发出大量有毒有害气体,而且含铬废水和废气污染大,材料浪费严重,能量消耗大。目前印刷用的铬层厚度和硬度都达不到一次大批量的印刷生产的要求,降低了生产效率。

实用新型内容

本实用新型在于提出一种新型镀膜凹版版辊,在加工好版辊的印版图案后,镀上一层DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)膜,DLC(Diamond likeCarbon,类金刚石)由无定形碳、石墨和金刚石组成,为sp1、sp2、sp3键共存体。其中,无定形碳中三键的碳原子也存在于乙炔(C2H2)气体中,即碳以sp1键(C≡C)结合;石墨中碳原子通过两个单键和一个双键与另外三个碳原子键合,即碳以sp2键(C=C)结合;金刚石晶格中每个碳原子通过单键与周围的四个碳原子键合,即碳以sp3键(C-C)结合。DLC(Diamond likeCarbon,类金刚石)的结构和性能介于金刚石和石墨之间,其硬度超过金刚石的20%,具有自润滑性。很薄的膜层却具有很高的硬度,而且DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)的磨擦系数很小,加工过程无任何污染。应用了DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)膜的本实用新型,很好的改善了现有电镀膜的缺陷。

技术方案如下:

首先将加工好印版图案的凹印版辊进行多次清洗,去除表面的油污和杂质;再将凹印版辊放到镀膜室内,将镀膜室抽成真空;充入氩气对版辊版面进行高能氩离子束轰击,达到清洁和增加版辊版面活性的作用;充入乙炔(C2H2)气体,将乙炔气体电离,分离出碳离子,经过一定的偏压能量作用将碳离子沉积到凹印版辊版面,通过对碳离子沉积速率、碳离子能量等工艺条件的控制,形成多种碳原子键结合方式,即DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)结构,逐渐在凹印版辊版面沉积出DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)膜,最终制得新型镀膜凹版版辊。

在镀膜的工艺过程中,由于整个沉积过程是全封闭的,由电脑进行全自动化控制操作,不会产生有毒气体和污染物,绿色环保,镀膜技术简单,易于操作,提高了生产效率。

附图说明

图1为本实用新型的立体图。

图2为本实用新型镀膜表面局部放大图。

具体实施方式

下面结合附图,具体介绍本实用新型的实施过程,技术方案如下:

1、将加工好印版图案3的凹印版辊1经过脱脂、去氧化物、漂洗、脱水、烘干等工序来去除油污和杂质。

2、将加工好印版图案3的凹印版辊1置于真空镀膜室中抽取真空。

3、采用高能氩离子束清洗凹印版辊1,从而去除凹印版辊1版面杂质并活化版辊表面,增加凹印版辊1版面与DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)膜的结合力。

4、充入乙炔(C2H2)碳氢气体,同时离子发生装置通过低电压、大电流的控制,从热阴极发出电子束,电子束在轴向磁场的作用下与乙炔(C2H2)气体发生碰撞,使乙炔(C2H2)气体电离,释放出碳离子,经过一定的偏压能量作用将碳离子沉积到凹印版辊版面上,通过对碳离子沉积速率、碳离子能量等工艺条件的控制,形成多种碳原子键结合方式,即DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)结构,逐渐在凹印版辊版面沉积出DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)膜2,最终制得新型镀膜凹版版辊。

DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)的结构和性能介于金刚石和石墨之间,其硬度超过金刚石的20%,具有自润滑性。根薄的膜层却具有很高的硬度,而且DLC(Diamond like Carbon,类金刚石)的磨擦系数很小,提高了耐磨性,能长时间保护版辊圆周表面的图案,提高了版辊的使用寿命。

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