[实用新型]用于真空溅射沉积薄膜的设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于真空溅射沉积薄膜的设备。

背景技术

目前，塑材工件的电磁波干扰遮蔽膜是一层金属薄膜，该金属薄膜通过真空溅射物理气相沉积溅射在塑材工件上，整个过程需要在真空环境中进行。原有技术中，真空溅射沉积薄膜设备的主溅射区内部的传送系统为带有电动机的自动传送系统，外部传送系统为万向滚轮回送线。需溅射的工件放置在传送平台上，经前负载腔体抽气后，直接进入溅射区腔体进行溅射沉积薄膜，传送平台被自动送出溅射区腔体进入后负载腔体进行充气，通过回送线升降台送至外部传送系统，由专人负责将传送平台通过万向滚轮回送线推回到进料口处，进行下一轮回作业。溅射沉积薄膜设备中有需要溅射的金属靶极，靶极上的金属离子通过物理气相沉积溅射在塑材工件上。因为现有溅射沉积薄膜设备的溅射靶极组数量、腔体内的抽气速率不足等，造成溅射沉积薄膜的厚度不厚，无法满足产品的要求；又由于需要专人负责将传送平台通过万向滚轮回送线推回到进料口处，会导致传送平台积压在外部传送系统，效率降低，人工成本高。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的是提供一种作业效率高、抽气速度快、溅射薄膜厚度厚的带有自动回送线的真空溅射沉积薄膜的设备。

为解决以上技术问题，本实用新型采取的技术方案是：一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台、前负载腔体、主溅射区、后负载腔体、后升降台、外部回送系统，所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元，该回送单元包括回送线支架、回送线平台、回送线传动轴、回送线传动轮、回送线马达，所述的回送线平台置于所述的回送线支架上，所述的的回送线传动轴可转动地设置在所述的回送线平台上，所述的回送线传动轮固定安装在所述的回送线传动轴上，所述的回送线传动轴由所述的回送线马达带动传动。

所述的各溅射区均包括一个溅射区腔体，所述的溅射区腔体上部设置有靶极组，所述的靶极组包括多个靶材、多个靶材吊环、多个靶材法兰口，所述的靶材位于所述的溅射区腔体内部，所述的靶材吊环与靶材法兰口位于所述的溅射区腔体的外部，所述的溅射区腔体下部设置有内部流通冷却水的多块遮板、溅射区传动轮及传动链条，所述的遮板上具有遮板入水口和遮板出水口，所述的遮板入水口和遮板出水口延伸至所述的溅射区腔体外部，所述的多个溅射区的溅射区腔体是依次相连的。

优选地，所述的主溅射区设有至少五个溅射区。

本实用新型具有如下优点：提高了抽气速率及靶极溅射能力，增加了溅射薄膜厚度；又由于增加了自动回送线，提高了效率，降低了成本。

附图说明

附图1为本实用新型整体结构俯视图；

附图2为本实用新型整体结构主视图；

附图3为四号溅射区俯视图；

附图4为四号溅射区主视图；

附图5为四号溅射区左视图；

附图6为五号溅射区俯视图；

附图7为五号溅射区主视图；

附图8为五号溅射区左视图；

附图9为升降台俯视图；

附图10为升降台主视图；

附图11为回送单元俯视图；

附图12为回送单元主视图；

其中：1、前升降台；2、前负载腔体；3、一号溅射区；4、二号溅射区；5、三号溅射区；6、四号溅射区；7、五号溅射区；8、后负载腔体；9、后升降台；10、回送单元；11、剪型支架；12、气压缸；13、升降台传动轮；14、升降台轴承；15、升降台传动马达；16、升降台底座；17、升降平台；18、升降台光电开关；20、传送平台；61、四号溅射区腔体；62、靶材；63、靶材吊环；64、靶材法兰口；65、四号溅射区遮板；66、四号溅射区拨杆开关；67、四号溅射区传动轮；68、四号溅射区轴承；69、四号溅射区遮板入水口；691、四号溅射区遮板出水口；71、五号溅射区腔体；72、五号溅射区遮板；73、五号溅射区传动轮；74、五号溅射区轴承；75、五号溅射区扩散泵浦；76、五号溅射区泵浦法兰口；77、五号溅射区扩散泵主阀；78、五号溅射区传动链条；79、五号溅射区遮板入水口；791、五号溅射区遮板出水口；101、回送线传动轮；102、回送线传动轴；103、回送线轴承；104、回送线支架；105、回送线平台；106、回送线马达；107、回送线光电开关。

具体实施方式