[实用新型]摇转式烤盘无效
| 申请号: | 200820170991.8 | 申请日: | 2008-12-25 |
| 公开(公告)号: | CN201328717Y | 公开(公告)日: | 2009-10-21 |
| 发明(设计)人: | 施军达;张华平 | 申请(专利权)人: | 施军达 |
| 主分类号: | A47J37/04 | 分类号: | A47J37/04 |
| 代理公司: | 宁波市天晟知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张文忠 |
| 地址: | 315420*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 摇转式烤盘 | ||
技术领域
本实用新型涉及电热锅的技术领域,特别涉及一种摇转式烤盘。
背景技术
一般的烤盘结构的电热锅,其结构多为烤箱型,或者是转动结构的烤盘,如专利号为ZL200620155050.8的中国实用新型专利《电烤箱的旋转烤盘机构》(公告号为CN201008321Y)就是此类设计;包括烤盘、承载烤盘的盘架、烤箱内板和驱动盘架转动的电机,电机具有电机轴,烤盘机构还包括垫圈、轴套、轴套座和电机固定板,电机轴从下至上依次穿过电机固定板、烤箱内板、轴套座、轴套和垫圈后与盘架固定相连,其中电机通过电机固定板固定在烤箱内板的下表面上,轴套安装在轴套座内,轴套座固定安装在烤箱内板的上表面上。该设计仅局限于食物烤制时的方便性,在食物烤制时,可以进行不断转动,操作方便,但是转动的方式只是提高了操作的方便性,对提高烤制效率无明显帮助。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的现状,提供一种结构新型、操作便捷及加工效率高的摇转式烤盘。
本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为:摇转式烤盘,包括底座和烤盘本体,底座制有两个凸起对称设置的第一支撑座和第二支撑座,第一支撑座和第二支撑座之间配制有凹型腔,该凹型腔与烤盘本体相嵌设;烤盘本体一侧配设有温控底座,烤盘本体另一侧配设有手柄底座;该手柄底座与第二支撑座的上边沿相转动连接,温控底座与第一支撑座的上边沿相转动连接。
采取的措施还包括:
上述的烤盘本体一侧制有凸起的耳座,该耳座铰接有烤盘面体,并且该烤盘面体底部制有的烘烤面与上述的烤盘本体顶部制有的工作面相配套。
上述的烤盘面体一侧制有凸起的铰接片,并且该铰接片与上述的耳座相配装;上述的烤盘面体另一侧配设有手柄上座,并且该手柄上座与上述的手柄底座相配套。
上述的手柄底座柄端制有第一转动环,相应地,上述的手柄上座柄端也制有第二转动环,并且该第二转动环与第一转动环配合成手柄圆环体。
上述的第二支撑座的上边沿固定有附助座,该附助座的中间制有内凹的中间孔体,并且该中间孔体与第二转动环、第一转动环相配成的圆环体相转动配合。
上述的手柄底座杆端配装有下手柄体,相应地,上述的手柄上座杆端配装有上手柄体,并且该上手柄体与下手柄体相配套。
上述的温控底座上还配装有温控上座,上述的温控底座的杆端制有第三转动环,并且该第三转动环与上述的温控上座配合成温控圆环体。
上述的第一支撑座上边沿中间制有内凹孔,上述的第一支撑座上边沿还配装有卡座,并且该卡座与所述的内凹孔之间形成有转动孔;该转动孔与第三转动环、温控上座配合成的温控圆环体相转动配合。
上述的烤盘本体顶部制有的工作面上制有模型腔,上述的烤盘本体底部配装有底盘盖,并且该底烤盘盖与上述的温控底座相配装。
上述的烤盘面体顶部配装有上盘盖,该上盘盖与上述的铰接片之间配设有温控盖;上述的温控盖上配装有温控旋扭,上述的烤盘本体底部还嵌装有第一发热件,相应地,上述的烤盘面体顶部还嵌装有第二发热件,并且该第二发热件、第一发热件均与上述的温控旋扭相连接;上述的底座凹型腔内底面配设有附助盘,并且该附助盘的上部敞口下对于上述的烤盘本体的下方;上述的底座的底部还配装有底盖。
与现有技术相比,本实用新型在底座制有两个凸起对称设置的第一支撑座和第二支撑座,第一支撑座和第二支撑座之间配制有凹型腔,该凹型腔与烤盘本体相嵌设;烤盘本体一侧配设有温控底座,烤盘本体另一侧配设有手柄底座;该手柄底座与第二支撑座的上边沿相转动连接,温控底座与第一支撑座的上边沿相转动连接。本实用新型的优点在于:在烤盘本体和烤盘面体上均设置发热件,烤盘内的食物上下受热,其烤制较为均匀;烤盘本体和烤盘面体经铰接配合后,并相旋转运动,烤盘内的食物能上下翻转烤制,其结构新型,操作便捷。
附图说明
图1是本实用新型实施例的平面示意图;
图2是图1中A-A处俯向剖视示意图;
图3是图1中A-A处左向剖视示意图
图4是图1的仰视示意图;
图5是本实用新型实施例的三维示意图;
图6是本实用新型实施例的分解示意图。
具体实施方式
以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细描述。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于施军达,未经施军达许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820170991.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





