[实用新型]超净高纯异丙醇的制备装置

说明书

(一)技术领域

本实用新型涉及一种生产超净高纯醋酸的装置。高纯异丙醇主要适用于微电子工业制造大规模集成电路半导体器件行业中作为清洗之用。属微电子化学试剂技术领域。

(二)背景技术

随着半导体技术的迅速发展，对超净高纯试剂的要求越来越高。在集成电路(IC)的加工过程中，超净高纯试剂主要用于芯片及硅圆片表面的清洗和刻蚀，其纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性有着十分重大的影响。超净高纯异丙醇作为一种重要的微电子化学品已经广泛用于半导体、大规模集成电路加工过程中的清洗、干燥等方面。随着IC的加工尺寸已进入亚微米、深亚微米时代，对与之配套的超净高纯异丙醇提出了更高的要求，要求颗粒和杂质含量降低1～3个数量级，达到国际半导体设备和材料组织制定的SEMI C12标准，其中金属阳离子含量小于0.1ppb，颗粒大小控制在0.5μm以下。

目前，超净高纯异丙醇通常是以工业级异丙醇为原料纯化精制而成。精馏是工业化提纯异丙醇的主要方法，包括共沸精馏、萃取精馏等。但是用于微电子化学品工业的超净高纯异丙醇对其中金属杂质，颗粒大小含量和阴离子的要求十分苛刻，精馏工艺已经无法满足要求。

中国专利CN100398502C公开了一种超纯异丙醇的制备方法，以工业异丙醇为原料，以碳酸盐调节pH值，加入脱水剂，进行回流反应，经精馏、蒸馏、膜过滤，得到符合国际半导体设备和材料组织制定的SEMI C12标准的超纯异丙醇。这一公开报道的制备方法无法稳定控制产品质量，特别是产品中金属离子含量以及颗粒杂质大小。

(三)发明内容

本实用新型的目的在克服现有技术生产的高纯异丙醇产品质量不稳定，不能满足超大规模集成电路加工要求的不足，提供一种工艺连续性强、分离效果好、纯度高、杂质含量低的超净高纯异丙醇的制备装置。

本实用新型的目的是这样实现的：一种超净高纯异丙醇的制备装置，包括原料槽、络合处理器、脱水处理器、微滤器、多级精馏塔、纳滤器和成品接受器，所述原料槽出口与络合处理器进口相连，络合处理器出口与脱水处理器出口相连，脱水处理器出口与微滤器进口相连，微滤器出口与多级精馏塔进口相连，多级精馏塔出口与纳滤器进口相连，纳滤器出口与成品接受器进口相连。其工作过程为：

先将工业级的异丙醇(98％)原料与为异丙醇原料重量0.5％～5％的金属离子络合剂在络合处理器中混合，常温常压30～120分钟后进入脱水处理器，在脱水处理器里，与为异丙醇原料重量0.1％～15％的脱水剂在60C～100℃温度下混合60～150分钟，再在0.1～0.2MPa的运行压力下经过微滤器的微滤膜进行过滤，滤液进入到多级精馏塔，出塔的半成品在净化环境下，用0.5～0.8MPa的运行压力经纳滤器的纳滤膜过滤后进入成品接受器。

本实用新型中，所述的金属离子络合剂为双烯丙基冠醚与含氢硅油加成制得的有机硅高分子络合剂；所述双烯丙基冠醚为双烯丙基18-冠-6醚或双烯丙基12-冠-4醚或双烯丙基15-冠-5醚；所述的工艺装置中用的高分子金属离子络合剂，可以通过化学处理进行有效的回收并循环使用；所述的脱水剂为分子筛、硫酸镁、氯化钙、氢化钙、酸酐或硅胶；所述的精馏塔为四级精馏塔，精馏压强为0～0.3Mpa、温度为50℃～100C，回流比为0.3～2；精馏塔所用材质为高纯石英；微滤膜过滤时的压力选择为：0.1、0.15或0.2MPa；纳滤膜过滤时的压力选择为：0.5、0.6或0.8MPa，所述的微滤膜、纳滤膜为高密度聚乙烯材质；所述微滤膜的孔径为0.2～0.8μm，所述纳滤膜孔径为0.5～1.5nm；所述的净化环境的超净指数为100级。