[实用新型]底部锥型真空室无效
| 申请号： | 200820155193.8 | 申请日： | 2008-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN201313395Y | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 黄磊 | 申请（专利权）人： | 上海金发科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B29C47/76 | 分类号： | B29C47/76 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 | 代理人： | 吴瑾瑜 |
| 地址： | 201714上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 底部 真空 | ||
【权利要求书】：
1.一种底部锥型真空室，由真空室密封盖(1)、真空表(2)、真空管(6)组成，其特征在于：锥型真空室的下部为一个圆锥体(3)、圆锥体(3)上设有挡板(4)，挡板(4)的下部与真空室底座(5)相连；在圆锥体(3)上连接有斜向向下的真空管(6)。
2.根据权利要求1所述的底部锥型真空室，特征在于：挡板(4)为圆柱体，挡板(4)的上部高于圆锥体(3)的下部。
3.根据权利要求1所述的底部锥型真空室，特征在于：抽真空管道(6)设于圆锥体(3)的偏上部。
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