[实用新型]用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器及控制系统

权利要求书

1.一种用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器，其特征在于，所述的挥发器由挥发槽(10)、喷雾管(11)、加热管(12)，支承件(14)和支承座(17)组成；

所述挥发槽包括挥发腔(101)，该挥发腔两端面密封；左封头端面设有与加热管(12)连通定位安装孔(102)；该挥发腔中部外层设有加热夹套(103)，该夹套的上部和下部各设有进水口(1031)和出水口(1033)；在该挥发腔(101)的下部左右二端设有排污口(104)和三氯氢硅进料口(105)；在该挥发腔(101)的上部设有三氯氢硅和氢气的出料口(106)；该挥发腔(101)设有外接液位传感器的联接口(1071)；该挥发腔(101)右封头端面上设有窥视窗(108)、喷雾管法兰联接器(109)、联接目视液位计的孔(10101)；

所述喷雾管(11)由圆管(111)和法兰(112)组成，圆管(111)一端封闭，另一端设有管接螺纹，法兰位于管接螺纹端，圆管(111)壁上设有若干小穿孔；在挥发槽(10)外，喷雾管(11)法兰端与挥发槽(10)的法兰联接器(109)相连；在挥发槽(10)内，另一端固定在支承件(14)上，支承件(14)二端通过焊接固定在挥发腔(101)腔壁上。

所述加热管(12)由U型盘向加热管组成，所述加热管固定在支承件(15)、(16)上，加热管的进出口管穿过挥发腔(101)定位安装孔(102)，并进行密封焊接，支承件(15)和(16)二端通过焊接固定在挥发腔(101)腔壁上。

2.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器，其特征在于，所述的挥发腔(101)还包括进水孔(1032)和出水孔(1034)；该挥发腔(101)还设有外接液位传感器的联接口(1072)；右封头还装有联接目视液位计的孔(10102)。

3.根据权利要求1或2所述的用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器，其特征在于，所述的挥发槽(10)、喷雾管(11)、加热管(12)均为不锈钢材料。

4.一种用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的控制系统，其特征在于，包括如权利要求1所述的挥发器(1)、有笼浮筒式液位传感控制器(3)、液位计、压力传感控制器(4)、热导式摩尔比检测控制器(5)、主路H2调节阀(6)、旁路H2调节阀(7)、三氯氢硅加液阀(8)、安全阀(9)、炉前工艺气体流量计(10)、还原炉(11)及其它阀门和管线连接组成；挥发槽(10)通过进料联接管(105)与三氯氢硅料管相联接，有笼浮筒式液位传感控制器(3)与通过接管(1071)和(1072)与挥发器(1)相联接；挥发槽(10)通过出料联接管(106)与混合气输送管相联接，在混合气体输送管A点上旁通装有压力传感控制器(4)；在混合气体输送管B点处旁通装有三氯氢硅和主路氢气采样管与热导式摩尔比检测控制器(5)相联，在主路氢输送管D点旁通装有纯氢采样管与热导式摩尔比检测控制器(5)相联；在混合气体进入还原工序前E点旁路装有安全阀(9)，联通至尾气淋洗管。