[实用新型]双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备，包括真空镀膜机，所述真空镀膜机包括真空腔体及与其连接的加热/冷却系统、真空获得/压力测量系统、工艺气体/流量控制系统、射频电源/匹配器系统和中心控制系统，其特征在于：该真空镀膜机设有两个真空腔体，每个真空腔体设有一至多个电极盒。

2.如权利要求1所述的双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备，其特征在于：所述两个真空腔体共用真空获得/压力测量系统，工艺气体/流量控制系统，射频电源/匹配器系统，通过中心控制系统在时间上控制真空腔体的交替镀膜过程。

3.如权利要求1所述的双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备，其特征在于：所述真空腔体内设置轨道，电极盒安装在轨道上，便于安装和维护时拉出和推入。

4.如权利要求1所述的双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备，其特征在于：各个系统与电极盒的连接均为固定式，在生产的全部过程中无须移动、拆卸或装接。