[实用新型]一种具有金属膜层的壳体无效

专利信息
申请号: 200820147092.6 申请日: 2008-08-25
公开(公告)号: CN201294686Y 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 彭云琴;付军;方焱 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: H05K5/00 分类号: H05K5/00;C23C14/22;B32B5/00;B32B15/04;B32B33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 金属膜 壳体
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种壳体,特别是具有金属膜层的壳体。

背景技术

PVD(物理气相沉积)是通过蒸发,电离或溅射等过程,产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。电子产品(如手机、MP3、MP4等)经过镀PVD金属膜以后会有很强的金属质感和高亮的金属光泽,使产品变得更加绚丽、高贵。电子产品作为一种日常用品,必须要符合使用要求,要通过产品的各项性能测试,如QUV测试(紫外光加速老化试验),即用340nm波长在60℃条件下的用紫外光照4小时,再在50℃条件下冷凝4小时,再重复上述步骤光照、冷凝,如此循环共96小时。将具有PVD金属膜层产品进行QUV测试后发现:PVD金属膜层在紫外光照射后会发生黄变,金属光泽度下降。这是因为现在具有PVD金属膜层的电子外壳产品,其常见的PVD产品外壳结构是在PVD金属膜层的表面还会覆盖一层面漆涂层,所述面漆涂层是一层紫外光固化油漆,用以保护PVD金属膜层。但是经过长期的紫外光照射后,会加速紫外光固化油漆老化失效,使得里面的PVD金属膜层失去保护,容易与周围的氧气和水分反应被氧化使得颜色变化。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的壳体的金属膜层的保护面漆抗紫外能力较差,长期使用后会被老化失效使得金属被氧化产生黄变,金属光泽度下降的缺陷。

本实用新型采用的技术方案如下:

本实用新型提供了一种具有金属膜层的壳体,该壳体包括壳体基材和位于所述壳体基材表面之上的金属膜层和位于金属膜层之上的面漆涂层,其中,该壳体还包括抗氧化层,所述抗氧化层位于所述金属膜层和面漆涂层之间。

根据本实用新型提供的具有金属层的塑胶壳体,在基材表面附着有金属层后又附着有抗氧化层,使该壳体具有很强的金属质感和金属光泽的同时,同时壳体表面还具有很好的抗氧化性,可延长其使用寿命。

附图说明

图1为本发明的具有金属层的壳体的示意图。

具体实施方式

如图1所示,根据本实用新型提供的具有金属层的壳体包括壳体基材和位于所述壳体基材1表面之上的金属膜层3和位于金属膜层3之上的面漆涂层6,其中,该壳体还包括抗氧化层4,所述抗氧化层4位于金属膜层3和面漆涂层6之间。

所述壳体基材可以为各种基材,例如通常的电子产品所采用的塑胶材料,如聚酯、聚碳酸酯PC、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯ABS、有机玻璃PMMA、或它们之中至少两种的复合材料。

上述塑胶基材可以通过各种方法制备得到,例如,可以通过将现有的各种塑胶基材裁切得到,也可以通过直接注塑成型得到。所述注塑成型的方法已为本领域技术人员所公知,例如可以通过使用住友SE180DU注塑成型机进行注塑成型,获得塑胶基材。

所述金属膜层可以为各种可以镀覆在所述壳体基材上的金属膜层,例如镍、铬、锡、铟、铟锡合金、铝或不锈钢,使本实用新型的壳体具有金属的质感和金属光泽。所述金属膜层的厚度优选为30-40纳米,该金属膜层的形成方法可以采用各种方法,在本实用新型中优选采用物理气相沉积(PVD)的方法,物理气相沉积(PVD)的方法包括溅射镀膜、离子镀膜、蒸发镀膜,优选采用蒸发镀膜的方法。蒸发镀膜的方法采用常规的方法进行,例如真空度为1-8×10-3Pa,预热功率为10%-30%(占总功率的百分比),预热时间10-20s;预熔功率25%-35%(占总功率的百分比),预熔时间15-25s;镀膜功率30%-60%(占总功率的百分比),镀膜时间为15-25s。

所述抗氧化层的材料可以为二氧化硅或二氧化钛,所述抗氧化层优选为光学膜层,所述光学膜层的厚度以及层数可以根据需要进行设定,优选所述光学薄膜层数为SiO2层,所述光学膜层的总厚度优选为15-30纳米,优选为25纳米。

本发明所述光学薄膜可以通过各种方法形成。例如,可以通过物理气相沉积(PVD)的方法来形成。所述PVD方法包括真空蒸镀、溅射镀、离子镀等。上述各种方法的具体操作均为本领域技术人员所公知。作为一种优选的方法,可以通过电子束蒸镀的方法来形成所述光学膜层。所述电子束蒸镀的方法为真空蒸镀中的一种。所述电子束蒸镀的方法为本领域技术人员所公知,具体可以通过电子束蒸镀机来实施。所述电子束蒸镀机可以使用现有的各种型号的电子束蒸镀机。优选情况下,所述光学膜层的形成方法包括:在2×10-3-5×10-3帕的真空条件下,在35-55℃下用电子枪以8-10千瓦的功率发射电子束加热光学膜层的材料。在上述优选情况下,光学膜层的附着力更高。

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