[实用新型]高透光导电膜系无效
| 申请号: | 200820140579.1 | 申请日: | 2008-10-07 |
| 公开(公告)号: | CN201266244Y | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
| 发明(设计)人: | 甘国工 | 申请(专利权)人: | 甘国工 |
| 主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/10;B32B7/02;B32B9/04;B32B33/00;B32B17/06;B32B27/06 |
| 代理公司: | 成都立信专利事务所有限公司 | 代理人: | 江晓萍 |
| 地址: | 610100四川省成都市龙泉驿区经济*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透光 导电 | ||
1.一种高透光导电膜系,其特征在于包括透明基层,在透明基层的一表面依次复合的由高折射率无机介质膜、低折射率无机介质膜依次交错排列形成的至少两层无机介质膜的无机介质膜层,复合于无机介质膜层最外层的透明导电膜层,透明导电膜层的厚度为满足方块电阻需要的厚度8~60nm,高透光导电膜系在380nm~780nm光波长范围内整体透过率达到85%以上。
2.如权利要求1所述的高透光导电膜系,其特征在于透明基层为玻璃板或树脂板。
3.如权利要求1所述的高透光导电膜系,其特征在于透明基层为柔性树脂膜。
4.如权利要求1所述的高透光导电膜系,其特征在于高折射率无机介质膜是氧化钛层或氧化铌层。
5.如权利要求1~4之一所述的高透光导电膜系,其特征在于高折射率无机介质膜厚度在10至80nm、折射率大于2.0,低折射率无机介质膜厚度在20至150nm、折射率小于1.55、透明导电膜层厚度为8至60nm、折射率1.7至2.0。
6.如权利要求1~4之一所述的高透光导电膜系,其特征在于透明导电膜层是氧化铟、氧化锡、氧化锌、ITO、ATO、AZO???中的至少一种组成的膜层。
7.如权利要求1~4之一所述的高透光导电膜系,其特征在于当透明基层的折射率为n1,高折射率的无机介质膜折射率为n2、低折射率的无机介质膜折射率为n3、透明导电膜层的折射率为n4时,满足n2>n1、或n2>n3、或n4>n1、或n4>n3。
8.如权利要求1~4之一所述的高透光导电膜系,其特征在于在透明基层的另一表面复合至少两层TiO2与SiO2或Nb2O5与SiO2形成的增透减反射膜层。
9.如权利要求8所述的高透光导电膜系,其特征在于在透明基层的另一表面复合的增透减反射膜层最外层有一层防划伤、防污的有机硅薄膜。
10.如权利要求8或9所述的高透光导电膜系,其特征在于在透明基层的另一表面与增透减反射膜层之间有一层与透明基层牢固覆合的有机增硬涂层。
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