[实用新型]批量制备镀膜颗粒的滚筒式磁控溅射设备

权利要求书

1、一种滚筒式磁控溅射设备，包括溅射室及内置的靶托和放置试样的样品台，其特征在于：所述的溅射室为双开门可抽拉式结构，靶托与放置试样的样品台分别固定在两门上，两门分别通过支撑架安置于导轨上且可沿导轨移动。

2、根据权利要求1所述的滚筒式磁控溅射设备，其特征在于：所述固定靶托的门上安装有扳手，靶托可随溅射室门上的扳手联动，门与扳手为可绕固定支点左右180°旋转的结构。

3、根据权利要求1所述的滚筒式磁控溅射设备，其特征在于：所述的放置试样的样品台为内置滚筒式结构。

4、根据权利要求3所述的滚筒式磁控溅射设备，其特征在于：所述的滚筒与固定其门为可实现左右双向120°旋转的结构。

5、根据权利要求3所述的滚筒式磁控溅射设备，其特征在于：所述的滚筒与固定其门配置有可控制其实现上、下角度倾斜的驱动机构。

6、根据权利要求5所述的滚筒式磁控溅射设备，其特征在于：在滚筒两侧均设置60°的倒角挡板。

7、根据权利要求3所述的滚筒式磁控溅射设备，其特征在于：所述的滚筒外壁均匀安置真空加热电阻丝。

8、根据权利要求3所述的滚筒式磁控溅射设备，其特征在于：所述的滚筒外壁顶部设有震动装置。