[实用新型]一种基于散射的消相干匀场装置无效
| 申请号： | 200820122639.7 | 申请日： | 2008-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN201285473Y | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 成华;毕勇;颜世鹏;贾中达 | 申请（专利权）人： | 北京中视中科光电技术有限公司;中国科学院光电研究院 |
| 主分类号： | G02B27/48 | 分类号： | G02B27/48 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王 勇 |
| 地址： | 100094北京市海淀区永丰高新*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 散射 相干 装置 | ||
1.一种用于激光的消相干匀场装置，包括中空波导和散射媒质，其中，所述散射媒质适用于对所述激光实行瑞利散射，所述中空波导为密封腔体以容纳所述散射媒质并对所述激光实行传导。
2.权利要求1所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述中空波导包括侧壁和光入射面、光出射面，所述侧壁适用于反射所述激光；所述光入射面和光出射面位于所述中空波导的端面处，适用于透射所述激光。
3.权利要求1所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述中空波导为笔直形状或弯曲形状。
4.权利要求1-3之一所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述散射媒质为无机盐水溶液或有机物醇溶液。
5.权利要求2所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述侧壁、光入射面和光出射面由透明塑料或玻璃制成。
6.权利要求2所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述侧壁的内表面或外表面镀有针对所述激光的波段的全反射膜。
7.权利要求2所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述侧壁的折射率小于所述散射媒质的折射率。
8.权利要求2所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述光入射面的两通光面和光出射面的两通光面均镀有针对所述激光的波段的增透膜。
9.权利要求5所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述透明塑料为聚四氟乙烯。
10.权利要求1所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述中空波导的横截面形状为矩形或圆形。
11.权利要求4所述的用于激光的消相干匀场装置，其中所述无机盐水溶液为NaCl、KCl、KNO3或ZnSO4的水溶液。
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