[实用新型]一种用于光刻机浸没控制装置

权利要求书

1.一种用于光刻机浸没控制装置，在投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的浸没控制装置(2)；其特征在于所述的浸没控制装置(2)：包括密封构件(2A)、上端盖(2B)、注液管道(2C)和回收管道(2D)，其中：

1)密封构件(2A)：

从中心向外依次开有注液腔(4C)、回收腔(5A)、注液缓冲腔(4A)、回收缓冲腔(5C)、流场缓冲腔(6A)、1-10组内表面进行亲憎水处理的张力槽(7A)和干燥腔(8A)；

注液腔(4C)和回收腔(5A)均为弧度为40-170°的环形圆柱结构互不连通；

注液缓冲腔(4A)和回收缓冲腔(5C)互不连通，注液缓冲腔(4A)和回收缓冲腔(5C)的下表面距离密封构件(2A)下表面1-20mm，弧度分别与注液腔(4C)和回收腔(5A)相同的环形圆柱结构，注液缓冲腔(4A)和回收缓冲腔(5C)外侧面向外分别开有注液通道(4D)和回收通道(5D)；

流场缓冲腔(6A)为连续环形圆柱结构，上方开有垂直衬底(3)的缓冲腔通孔(6C)；

1-10组内表面进行亲憎水处理的张力槽(7A)，为同心圆的环形结构，过浸没控制装置(2)中心、垂直衬底(3)方向上截面为向外倾斜的三角形；

干燥腔(8A)为连续环形圆柱结构，上方开有垂直衬底(3)且连接负压气体的干燥腔通孔(8B)，内部填充高吸水性的干燥腔填充物(8C)；

2)上端盖(2B)：

为环状结构，垂直于衬底(3)方向开有注液排气通道(4B)、该孔向下与注液缓冲腔(4A)相通；平行于衬底(3)方向，在注液腔(4C)一侧，开有环形圆柱状缓冲溢流槽(6D)，开槽弧度与注液腔(4C)相同，该槽向外与流场缓冲腔(6A)相通；

3)注液管道(2C)和回收管道(2D)：

注液管道(2C)插入注液通道(4D)，与注液缓冲腔(4A)连通；回收管道(2D)插入回收通道(5D)，与回收缓冲腔(5C)连通。

2.根据权利要求1所述的一种用于光刻机浸没控制装置，其特征在于：所述的回收腔(5A)与回收缓冲腔(5C)之间设置环形圆柱状的回收挡板(5B)，距离回收缓冲腔(5C)下表面1-20mm；注液缓冲腔(4A)及回收缓冲腔(5C)与流场缓冲腔(6A)之间设置环形圆柱状的缓冲腔挡板(6B)，缓冲腔挡板(6B)顶部比回收腔挡板(5B)顶部高1-25mm。

3.根据权利要求1所述的一种用于光刻机浸没控制装置，其特征在于：所述的注液腔(4C)、回收腔(5A)、流场缓冲腔(6A)、张力槽(7A)和干燥腔(8A)由密封构件(2A)的下表面向上延伸。

4.根据权利要求1所述的一种用于光刻机浸没控制装置，其特征在于：所述的张力槽(7A)的向外倾斜的三角形钝角为100-170°。