[实用新型]光强调整结构及应用其的扩散膜无效
| 申请号： | 200820112613.4 | 申请日： | 2008-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN201218892Y | 公开（公告）日： | 2009-04-08 |
| 发明（设计）人： | 黄弘毅;李祈煌 | 申请（专利权）人： | 达方电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357;G02B5/02;B32B33/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 魏晓刚 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 调整 结构 应用 扩散 | ||
1.一种光强调整结构，用以设置在一背光模块的一扩散膜中，其特征在于，该光强调整结构包括：
一珠体；以及
一光强调整剂，设置于该珠体，用以改变一光线中的至少一特定波长的强度。
2.根据权利要求1所述的光强调整结构，其特征在于，该光强调整剂设置在该珠体内。
3.根据权利要求1所述的光强调整结构，其特征在于，该光强调整剂包覆该珠体。
4.根据权利要求1所述的光强调整结构，其特征在于，该珠体的粒径为0.8～300微米。
5.根据权利要求1所述的光强调整结构，其特征在于，该珠体的材料包括高分子树脂与无机玻璃的至少其中之一。
6.根据权利要求1所述的光强调整结构，其特征在于，该珠体实质上为一球体。
7.根据权利要求1所述的光强调整结构，其特征在于，该珠体实质上为一椭圆体。
8.一种扩散膜，用以设置在一背光模块内，其特征在于，该扩散膜包括：
一基板；以及
多个光强调整结构，设置在该基板上，该些光强调整结构分别包括：
一珠体；及
一光强调整剂，设置于该珠体，用以改变一光线中的至少一特定波长的强度。
9.根据权利要求8所述的扩散膜，其特征在于，该光强调整剂设置在该珠体内。
10.根据权利要求8所述的扩散膜，其特征在于，该光强调整剂包覆该珠体。
11.根据权利要求8所述的扩散膜，其特征在于，该珠体的粒径为0.8～300微米。
12.根据权利要求8所述的扩散膜，其特征在于，该珠体的材料包括高分子树脂与无机玻璃的至少其中之一。
13.根据权利要求8所述的扩散膜，其特征在于，该珠体实质上为一球体。
14.根据权利要求8所述的扩散膜，其特征在于，该珠体实质上为一椭圆体。
15.根据权利要求8所述的扩散膜，其特征在于，还包括：
一粘附层，设置在该基板上，使得该些光强调整结构粘附在该基板上。
16.根据权利要求15所述的扩散膜，其特征在于，该粘附层具有多个聚光结构，用以导引该光线朝一方向投射。
17.根据权利要求15所述的扩散膜，其特征在于，该光强调整剂还设置在该粘附层内。
18.根据权利要求8所述的扩散膜，其特征在于，还包括：
一粘附层，设置在该基板上，使得该些光强调整结构粘附在该基板上；以及
一聚光层，设置在该粘附层上，该聚光层具有多个聚光结构，用以导引该光线朝一方向投射。
19.根据权利要求18所述的扩散膜，其特征在于，该该些光强调整结构还设置在该聚光层内。
20.根据权利要求18所述的扩散膜，其特征在于，该光强调整剂还设置在该粘附层内。
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