[实用新型]具有表面结构的光学膜无效

专利信息
申请号: 200820112013.8 申请日: 2008-05-05
公开(公告)号: CN201191342Y 公开(公告)日: 2009-02-04
发明(设计)人: 罗惠滨;郭浩然;袁广麟 申请(专利权)人: 光耀科技股份有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 具有 表面 结构 光学
【说明书】:

技术领域

本实用新型是有关光学膜,尤其是有关用于液晶显示器(LCD,LiquidCrystal Display)的背光系统或其它需要的具有多个棱镜柱结构的光学膜。

背景技术

请参阅图1所示。一般液晶显示器的背光系统,包括冷阴极灯管(CCFL)11、导光板(LGP)12、下扩散片(Bottom diffuser)13、聚光片(Prismsheet)14、上扩散片(Top diffuser)15及反射板(Reflector)16所组成。

请参阅图2所示。已知聚光片14是由多个纵向平行排列,剖面呈三角形的棱镜柱(Prism rod)141及基材(Substrate)142所组成。棱镜柱141结合于基材142的一侧边。每一菱镜柱141的高度、宽度相同,且棱镜柱141的峰(Peak)高度不变,走向为直线,峰两侧的斜面相对称。已知聚光片14具有由多个规律的棱镜柱141构成的表面结构。

请参阅图3、图4所示。聚光片14的光学路径模式有三种:

全反射回收(TRI Recycle):

光线143由棱镜柱内约在垂直棱镜柱141底面的虚拟垂直轴140的±4°内射入时,受棱镜斜面柱141的全反射现象的影响,经两次全反射后,回收至背后光源方向,继续扩散传播利用;

二次折射回收(2nd Reflection Recycle):

光线144经由两棱镜柱141的折射后,再回收至背后光源方向,继续扩散传播利用;及

直接折射(Directed Reflective):

光线145经由棱镜柱141的斜面折射出,此光路模式有集中光线的作用;如图3中所示,由棱镜柱141的视角80°范围内折射出的光线才有利用价值。

请参阅图4所示。上述具有多个纵向平行规律排列的棱镜柱141的聚光片14,当其上方叠置一上扩散片15或另一聚光片等上层材料膜时,会产生如下问题:

聚光片14与上层的上扩散片15之间会有沾粘的问题。

聚光片14与上扩散片15沾粘的区域151,在大视角观察时有白斑的现象。

聚光片14于沾粘的区域151的峰(Peak)直接与上扩散片15等上层材料膜接触容易刮伤上层材料膜。

为了改善下层的导光膜与上层材料叠置时产生的诸多问题,美国专利第5,771,328号所揭示一种导光膜,包含第一表面及第二结构表面。第二结构表面包含具有重复结构的棱镜区;棱镜区包含一第一区,具有多个棱镜元件,其棱线与参考平面具有第一距离;及一第二区具有多个棱镜元件,其棱线与参考平面具有第二距离,第二距离小于第一距离;第一区的宽度少于30微米(nm)。

上述美国专利揭示的导光膜,由较高的第一区的多个棱线支撑于上层材料的下表面,而不会使导光膜全部的棱线支撑于上层材料的下表面,可减少导光膜与上层材料因相互叠置的关系而产生的沾粘、在大视角观察时有白斑的现象及刮伤的问题。

实用新型内容

为了使光学膜具有新的支撑结构,减少聚光片支撑于上层材料的下表面时,产生的沾粘、在大视角观察时有白斑的现象及刮伤的问题,而提出本实用新型。

本实用新型的主要目的,在提供一种具有表面结构的光学膜,可减少与上层材料膜产生沾粘的问题。

本实用新型的另一目的,在提供一种具有表面结构的光学膜,可减少聚光片及上层材料的沾粘区域,在大角度观察时产生白斑的现象。

本实用新型的又一目的,在提供一种具有表面结构的光学膜,可减少刮伤上层材料的下表面,有助于增加包含聚光片及上层材料等的电子产品的制造良率。

本实用新型提供一种具有表面结构的光学膜,其特征在于,包括一基材的一表面包含有多个纵向接近平行排列的光控制元件;每一个该光控制元件包括两个斜面形成一个独立峰;每两个该独立峰之间相邻的两个斜面连接形成一个独立的谷;所述独立峰的高度呈周期性由高至低然后由低至高的变化;由高至低及由低至高变化的所述独立峰的峰顶的虚拟联机成一直线;所述独立谷之间的间距随所述独立峰的高低变化呈等比变化。

其中所述独立峰的顶角均相等。

其中所述独立谷的谷夹角均相等。

其中相邻两所述独立谷之间的间距随所述独立峰的高低变化呈等比变化。

其中该每一个独立峰高低差异不大于5-1微米。

其中该每一个独立峰高度最大与最小比率不大于1.2-1.05倍。

其中所述独立峰每一次高低变化周期在2-10个独立峰之间。

其中所述独立峰的高低变化周期少于200微米。

其中所述独立峰的顶角的夹角范围为70度至110度之间。

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