[实用新型]防静电离心干燥保护装置及含有这种保护装置的甩干设备

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种基片生产工艺中使用的部件和含有这种部件的设备，尤其是一种在基片甩干过程中使用的保护装置和含有这种保护装置的设备。

【背景技术】

镜片生产工艺中，在镜片镀膜切割成中片之后，需要对中片进行漂洗和甩干，以清除镜片上的污物。在现有的甩干设备中，均是采用高速旋转脱水的方法进行甩干。如图1所示，甩干机上设有中心轴1和底座2，以及可跟随中心轴1旋转的悬挂架3，基片托盘4两端固定在悬挂架上3并可绕两固定端翻转。基片托盘4上放置清洗架，镜片中片垂直放置在清洗架中。甩干机工作时，中心轴1带动悬挂架3、基片托盘4和其上的清洗架高速旋转，在离心力的作用下中片上的水滴被甩干。

现有设备的缺陷是，基片托盘4的高度低于清洗架6的高度，在高速旋转时，靠近清洗架6外部边缘的镜片，与周边的空气发生高速摩擦，极易产生静电。在静电的作用下，边缘部位的镜片吸附了空气中的很多灰尘，影响镜片质量，降低了成品率。

对其他需要清洗甩干的基片或电子元器件而言，如果对于防静电要求比较高，那么在甩干的过程中也同样存在类似的问题。

【实用新型内容】

本实用新型要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种可防止基片在甩干过程中与空气摩擦产生静电而吸附灰尘的保护装置。本实用新型还可以提供含有这种保护装置的甩干设备。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

一种防静电离心干燥保护装置，其所述防静电保护装置为设有闭合侧壁的保护罩，所述保护罩侧壁的高度与放置待甩干基片的清洗架高度适配。

其中：所述保护罩为金属保护罩，该金属保护罩采用不锈钢材料制成。

其中：所述保护罩为上下贯通的环形。

其中：所述保护罩为上下贯通的方形。

一种含有防静电离心干燥保护装置的甩干设备，包含马达、由马达驱动的中心轴、随同中心轴旋转的基片托盘，放置待甩干基片的清洗架置于所述基片托盘上，其特征在于：还包含一置于基片托盘上的防静电离心干燥保护罩，所述清洗架位于所述防静电离心干燥保护罩内部空间中，且两者的高度相适配。

其中：所述防静电离心干燥保护罩为金属保护罩。

其中：所述防静电离心干燥保护罩为上下贯通的环形。

其中：所述防静电离心干燥保护罩为上下贯通的方形。

其中：所述防静电离心干燥保护罩上端封闭。

其中：防静电离心干燥保护装置为侧壁高度与所述清洗架高度相适配的基片托盘。

本实用新型具有以下有益效果：

1.本实用新型采用金属制成的保护罩，高度与放置基片的清洗架高度相当，并且环绕清洗架设置，能够有效阻隔基片与周边空气摩擦而产生静电，进而防止基片沾附污物。不锈钢相对于铁等金属，不会因沾附清洗液、水等物质而产生锈蚀，不会因此影响基片质量。

2.本实用新型的保护罩采用有盖或无盖上下贯通的形式，可保证基片上的清洗液及杂质全部脱离不残留，尤其是上下贯通的形式，甩干的效果更为彻底。

3.本实用新型的保护罩制作简单、成本低廉，效果好。

4.本实用新型的甩干设备既可以配备分离的保护罩，也可以将基片托盘的边缘高度增加到与放置基片的清洗架的高度一致，达到阻隔基片与周边空气摩擦而产生静电的效果。甩干设备生产厂家或使用者可以根据需要选择使用上述方案。

【附图说明】

图1为现有甩干设备的示意图

图2为本实用新型基片离心干燥保护罩结构示意图

图3为本实用新型基片离心干燥保护罩设置于甩干设备的示意图

图4为本实用新型基片离心干燥保护罩与基片托盘、清洗架之间的位置关系示意图

其中：

1-中心轴     4-基片托盘            51-侧壁

2-底座       5-基片离心干燥保护罩  6-清洗架

3-悬挂架

【具体实施方式】

本实用新型提供一种基片离心干燥保护装置，该基片保护装置为设有闭合侧壁的金属保护罩，侧壁的高度与放置待甩干基片的清洗架高度适配。同时还提供一种含有基片离心干燥保护装置的甩干设备。

下面结合附图进行具体说明。

实施例一

如图2所示，本实用新型提供一下端敞开，周边有金属侧壁51的基片离心干燥保护罩5。金属侧壁51的高度与清洗架6的高度相当。