[实用新型]一种等离子体化学气相沉积进气装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种太阳能电池生产过程中的进气装置，具体的说是一种提高等离子体化学气相沉积(PECVD)均匀性的进气装置。

背景技术

在太阳能电池生产过程中，需要在玻璃基片上沉积PIN层，即分别向PECVD(等离子体化学气相沉积)设备通入硼烷、硅烷、磷烷，在PECVD内部有很多电极板，对电极板通电，则PECVD设备内部气体被电离，电离出的硼、硅、磷分别沉积在玻璃基片上形成PIN结，PIN结在光照的作用下，根据光电效应进行发电。

PECVD设备的使用过程中需要不断的进气，并且沉积硼、硅、磷时要求沉积膜层均匀，形成稳定的PIN结构，所以在进气时就要求气体能尽量均匀。现有PECVD设备为上部进气。所以当气体运动到下部时，浓度下降，影响沉积效果。

所以，需要对设备进行改进，使进气能均匀一些。保证PIN膜层的均匀，稳定。

发明内容

本实用新型的目的是要提供一种太阳能电池生产过程中，能够实现PECVD设备的进气均匀、稳定，从而保证沉积的PIN膜层均匀稳定的进气装置。

本实用新型的目的是这样实现的：该装置包括设备主体(PECVD设备主体)，所述的设备主体采用双侧进气的方式，其上面和下面均带有进气孔。

本实用新型由于采用上述结构，使得PECVD设备的进气方式由原来的一面进气改为目前的双面进气，即上下面一起进气，保证了进气的均匀性和沉积效果，使形成的PIN层结构均匀、稳定。

附图说明

图1为一种等离子体化学气相沉积进气装置整体结构示意图。

具体实施方式

由附图1所示：该装置包括设备主体1(PECVD设备主体)，所述的设备主体1采用双侧进气的方式，其上面和下面均带有进气孔2。