[实用新型]制造液晶显示面板用掩模板有效
申请号: | 200820060812.5 | 申请日: | 2008-10-07 |
公开(公告)号: | CN201489270U | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 汪梅林 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;G03F1/00;G03F7/00;H01L21/84 |
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地址: | 201201 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 液晶显示 面板 模板 | ||
1.一种制造液晶显示面板用掩模板,其特征是:包括多个单元产品掩模图形,用于液晶显示面板制造的光刻工艺,其中所述单元产品掩模图形包括开孔,并且所述开孔的孔边缘形成多个非规则直线图形。
2.根据权利要求1所述的掩模板,其特征是所述孔边缘的非规则直线图形为三角形、正方形或半圆形的任一种。
3.根据权利要求2所述的掩模板,其特征是所述非规则直线图形的尺寸以及间距小于制造液晶显示面板的曝光机的曝光精度。
4.根据权利要求3所述的掩模板,其特征是所述非规则直线图形的尺寸以及间距小于3μm。
5.根据权利要求3或权利要求4所述的掩模板,其特征是所述非规则直线图形的尺寸为所述三角形底边、所述正方形边长和所述半圆形的直径中的任一个。
6.根据权利要求1所述的掩模板,其特征是所述孔边缘的非规则直线图形为两个或两个以上与所述开孔的各边平行的细线条框。
7.根据权利要求6所述的掩模板,其特征是所述细线条框的宽度,所述细线条框与所述开孔之间的间距,以及所述细线条框之间的间距小于制造液晶显示面板的曝光机的曝光精度。
8.根据权利要求7所述的掩模板,其特征是所述细线条框的宽度,所述细线条框与所述开孔之间的间距,以及所述细线条框之间的间距均小于3μm。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备