[实用新型]探针诱导光刻薄膜

权利要求书

1、一种用于探针诱导表面等离子体共振光刻的探针诱导光刻薄膜，特征在于其结构由沉积于玻璃基底(4)上的直写光刻材料层(1)、介质层(2)和表面等离子体共振层(3)组成，所述的直写光刻材料层由AgO_x或NiO_y组成；所述的介质层由SiO₂组成；所述的表面等离子体共振层由Ag组成。

2、根据权利要求1所述的探针诱导光刻薄膜，其特征在于所述的直写光刻材料层的AgO_x，其中x≤1，通过控制磁控溅射所采用的O₂∶Ar气体流量比来实现的，AgO_x的成分是Ag、AgO和Ag₂O的混合物。

3、根据权利要求1所述的探针诱导光刻薄膜，其特征在于所述的直写光刻材料层的NiO_y，其中y≤3/2，是通过控制磁控溅射时的O₂∶Ar气体流量比来实现的，其成分是NiO和Ni₂O₃的混合物。

4、根据权利要求1、2或3所述的探针诱导光刻薄膜，其特征在于所述的直写光刻材料层的厚度为10-100nm。

5、根据权利要求1所述的探针诱导光刻薄膜，其特征在于所述的介质层的厚度为10-80nm。

6、根据权利要求1所述的探针诱导光刻薄膜，其特征在于所述的表面等离子体共振层的厚度为20-100nm。