[实用新型]屏蔽架成型模具结构无效
| 申请号: | 200820035360.5 | 申请日: | 2008-04-29 |
| 公开(公告)号: | CN201201014Y | 公开(公告)日: | 2009-03-04 |
| 发明(设计)人: | 段平安 | 申请(专利权)人: | 苏州汉扬精密电子有限公司 |
| 主分类号: | B21D37/10 | 分类号: | B21D37/10;B21D22/02;H05K9/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215300江苏省昆*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 屏蔽 成型 模具 结构 | ||
【技术领域】
本实用新型涉及一种模具结构,且特别涉及一种应用于电子组件屏蔽架成型技术中的屏蔽架成型模具结构。
【背景技术】
在电子类产品中,为了屏蔽某些电子组件发出的电磁波干涉其它的组件,通常采用的做法是用不锈钢的屏蔽盖封起来,而屏蔽盖通常固定在屏蔽架上,屏蔽架是采用SMT焊锡固定在PCB板上,由于屏蔽架的材料通常采用的材料为洋白铜,厚度在0.15mm~0.30mm之间,此材料由于比较薄,当金属在自然成形状态下,表面的应力没有被破坏掉,仍然会保持较好的弹性,当受到外力影响时,极容产生变形,而在SMT锡炉中,锡熔化后的高度为0.12mm,要求屏蔽架的平面度必须≦0.10mm,否则熔化的锡膏无法将屏蔽架固定在PCB板上。
请参阅图1所示,为现有一种屏蔽架的折弯示意图,屏蔽架10被折弯后,该屏蔽架10折弯处的外侧形成一自然成形的角度,如此屏蔽架10表面曲张力以及在模具冲头(图中未绘示)成形后退回时和屏蔽架10本身产生的磨擦力会使屏蔽架10很难达到平面度要求。
由上可知,实有必要提供一种屏蔽架成型模具结构,该屏蔽架成型模具结构结构简单,且可以稳定地保证产品的平面度在要求的范围内。
【发明内容】
本实用新型的主要目的,在于提供一种屏蔽架成型模具结构,该屏蔽架成型模具结构结构简单,且可以稳定地保证产品的平面度在要求范围内。
为达上述目的,本实用新型提供一种屏蔽架成型模具结构,该屏蔽架成型模具结构包括一上模板,该上模板上固定有一压料板,且该压料板的一侧设置有一冲头,该冲头固定于上模板,且该冲头的一端的一侧配合成型产品开设有一成型斜槽,该成型斜槽包括一斜面结构,该斜面结构在竖直方向上延伸有一第一成型结构,该第一成型结构于冲头拐角处延伸有一第二成型结构,该第二成型结构为一圆弧结构,另外配合上述上模板,该屏蔽架成型模具结构还包括一下模板,该下模板上固定有一下模成型入子。
特别地,所述斜面结构于水平面的斜角为45.00°角度;
特别地,所述第一成型结构的在竖直方向的长度应小于或等于1.00mm;
特别地,所述第二成型结构的圆弧半径应大于或等于0.80mm。
相较于现有技朮,本实用新型屏蔽架成型模具结构改变冲头的结构,从破坏屏蔽架表面曲张力及减少冲头摩擦力着手,不仅模具结构简单,而且可以稳定地保证产品的平面度在要求范围内。
为使对本实用新型的构造特征及其功能有进一步的了解,兹配合图示详细说明如下:
【附图说明】
图1为现有一种屏蔽架的折弯示意图;
图2为本实用新型一较佳实施例的剖面示意图;
图3为本实用新型一较佳实施例的成型剖面示意图。
【具体实施方式】
请参阅图2所示,为本实用新型一较佳实施例的剖面示意图,本实用新型屏蔽架成型模具结构包括一上模板20,该上模板上固定有一压料板201,且该压料板201的一侧设置有一冲头202,该冲头202固定于上模板20上,且该冲头202的一端的一侧配合成型屏蔽架30开设有一成型斜槽40,该成型斜槽40包括一斜面结构401,该斜面结构401与水平面的斜角α=45.00°角度;且该斜面结构401在竖直方向上延伸有一第一成型结构402,该第一成型结构402在竖直方向的长度应小于或等于1.00mm,于本实施例中,第一成型结构402在竖直方向的长度(即成型的直线段长度)H=1.00mm,且该第一成型结构402于冲头拐角处延伸有一第二成型结构403,该第二成型结构403为一圆弧结构,且第二成型结构403的圆弧半径应大于或等于0.80mm,于本实施例中,该第二成型结构403的圆弧半径R=.080mm;另外配合上述上模板20,该屏蔽架成型模具结构还包括一下模板50,该下模板50上固定有一下模成型入子501。
请参阅图3所示,为本实用新型一较佳实施例的成型剖面示意图,成型时,冲头202向下移动,因冲头202上的第二成型结构403设计为圆弧结构,同时将成型的直线段H控制在1.00mm以内,大大减少了成型的摩擦力,另外,冲头202上斜面结构401与水平面的斜角α=45.00°角度的设计,也破坏了屏蔽架30拐角的表面曲张力,避免因自身的曲张力而产生变形,从而使成型的屏蔽架30的平面度很稳定地控制在要求范围内。
本实用新型所提供的屏蔽架成型模具结构与现有技术相比,从破坏产品表面曲张力及减小冲头磨擦力着手,使产品更好的产生塑性变形避免产品因自身的曲张力而产生变形,同时第一成型结构和第二成型结构的设计大大减小成型时模具和成型屏蔽架之间的磨擦力,使用此种设计后产品成型时平面度很稳定,效果非常好,在生产时基本不需要后制程整形,平面度能控制要求范围内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州汉扬精密电子有限公司,未经苏州汉扬精密电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820035360.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图像显示装置
- 下一篇:一种高纯硅的制备方法





