[实用新型]耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置

权利要求书

1、耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置，其特征在于：电弧离子镀沉积装置设有两套磁场发生装置，一套放置于靶材后面，另一套放置于真空室内，通过两套耦合的磁场发生装置产生的耦合磁场辅助对基体进行沉积。

2、按照权利要求1所述的耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置，其特征在于：放置于靶材后面的磁场发生装置为在中间安装镀镍纯铁的电磁线圈或者环形永磁体。

3、按照权利要求1所述的耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置，其特征在于：放置于真空室内的磁场发生装置为一个耦合增强磁场线圈，耦合增强磁场线圈放置于真空室内的基体一侧或另一侧。

4、按照权利要求1所述的耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置，其特征在于：放置于真空室内的磁场发生装置为两个耦合增强磁场线圈，耦合增强磁场线圈分别放置于真空室内的基体一侧或两侧。

5、按照权利要求1所述的耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置，其特征在于：放置于真空室内的靶材外周设置有导磁环。

6.按照权利要求1所述的耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置，其特征在于：放置于真空室的磁场发生装置产生的磁场极性与放置于靶材后面的磁场发生装置产生的磁场极性相同。

7.按照权利要求2、3或4所述的耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置，其特征在于：电磁线圈的电流形式是直流、交流或者脉冲的，电流大小通过调压电源调节。

8.按照权利要求2、3或4所述的耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置，其特征在于：电磁线圈与靶材同轴，电磁线圈的位置可调，通过调节电磁线圈电流的大小来调节磁感应强度的大小，通过调节电流的方向来改变磁极的方向。