[实用新型]具深层结晶之建筑基材无效

专利信息
申请号: 200820001066.2 申请日: 2008-01-15
公开(公告)号: CN201245807Y 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 洪耀宗 申请(专利权)人: 洪耀宗
主分类号: E01C15/00 分类号: E01C15/00;E04F15/02;C03C17/00;C04B41/61;C04B41/81
代理公司: 北京挺立专利事务所 代理人: 叶树明
地址: 中国台湾台北县土*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 深层 结晶 建筑 基材
【说明书】:

技术领域

本实用新型系有关于一种基材,特别是一种具深层结晶微结构之基材,如抛光石英砖、陶瓷、玻璃、不锈钢之毛细孔填补,使其达到无毛细孔化。

背景技术

目前市面上充满许多不同种类之建材,以供建筑施工采用以铺设地面或步道,例如地砖、磁砖、大理石砖、石英砖等。以各种土壤(如黏土、高岭土、石英及各种土壤)研磨成粉末,以不同比例调和后利用模具压缩成形并经过窑烧后之成品。一般使用陶瓷黏土、长石、陶石、石英等多种原料磨粉、高压压铸成形,上釉经高温烧制而成的产品,可制成光面、雾面,高温烧成约800℃~1200℃不等,视产品的种类。

粉质材料之坯土经800~1000高温烧制,吸水率25%以下,粉料未熔合者。其为釉面亮度高、较平整性,成本低;陶质地砖之坯土经1000~1100℃高温烧制,吸水率16%以下。上述之缺点为易龟裂、吸水率高、硬度低。瓷质之坯土经1200以上高温烧制,粉料熔合,吸水率1%以下。优点为吸水率低、硬度高、质感较佳;但是缺点为成本高。

生产方式可分为以模具制造,多种石粉经研磨成细微粉末后,依一定比例混合并经高压成型。而后再窑烧之产品。另一种是射出成型,以真空射出机压挤后切割成型并经窑烧。另有采用窑烧方式。一般磁砖的构造是由表面的釉面及胚底所组成,而釉面和胚底组成材质不同,其膨胀系数自然不同,故会有裂釉的现象产生。由于冷缩热胀及釉面和胚底的膨胀系数不同,造成釉面形成不规则之裂纹或网状裂纹。

石英砖烧成后,经机械研磨(抛光),表面平整光亮,简称抛光石英砖。近年来建筑市场流行大尺寸抛光石英砖,其原因在天然石材是天然石块经切割成片状,经机械研磨,是天然的,其密度、硬度随着不同石块种类差异很大,毛细孔较多,吸水率较高、较不易保养、纹路对齐问题、铺设总厚度较厚、较费工、结构负担较重、价格较贵等问题,而抛光石英砖因是人工制成,其密度、硬度较均匀,则相对的毛细孔较细、吸水性低、较易保养(结晶瓷化抛光过,耐磨性较佳)、纹路一致统一、厚度较薄(约8~10MM厚,结晶瓷化过,抗弯强度较高)、省工、结构负担较轻、价格较便宜(大尺寸抛光石英砖例外)。

地砖砖瑕疵造成的原因很多,其表面具有许多细微凹洞,压模成型机吨数太少亦会造成胚体内部分子间的空隙过大。另外,抛光石英砖之表面毛细孔及细裂目前有打腊及表面涂装两种方式,这两种方式仅能在砖面形成一层薄膜,使其短暂防止污染源侵入。但因结构性差不能耐磨,所以只要行走在上面即刻被磨擦而失去作用,必须时常施工打腊。表面涂装虽然比打腊好些,但仍无法保持长时间防污。抛光石英砖因于工厂成型时,压模重量与压模时间不稳定,以致烧结完成之后抛光砖的表面布满了极细微且密集之孔隙。这些密集且细微之孔隙相当于天然石材中的“毛细孔”,即对抵抗污染率有着相当大的影响,孔隙愈大愈是密集,抗污率下降,光泽度降低。

目前市售产品有以常温表面胶层技术,该项技术进行测试,其表面硬度非常差几乎完全不耐磨。抗污性极差。对该地砖样品经以水性钢笔墨水测试其防污性,测试结果皆在两小时以内便渗入污渍无法清洗(参第四图)。

发明内容

有鉴于上述诸多缺点,本实用新型提出一种具深层结晶结构之基材。本实用新型之目的之一在于提供一种无毛细现象之基材。

一般石英砖之表面具有毛细孔及细裂,先前技术以打腊及表面涂装两种方式形成一层薄膜,使其短暂防止污染源侵入。但因结构性差不能耐磨,所以只要行走在上面即刻被磨擦而失去作用,必须时常施工打腊。表面涂装虽然比打腊好些,但仍无法保持长时间防污。

本案之特征在于采用奈米溶液,经深层结晶与高温烧结使奈米溶液结晶且与该基材结合,填补毛细孔或裂缝结合,俾使消除或降低该毛细孔或裂缝。

故本实用新型提出一建筑用基材,包含:材料基底,其表面具有毛细孔或裂缝;其特征在于该建筑用基材包含奈米结晶物质填入该毛细孔或裂缝,使其与该基材结合,达无毛细孔化之目的。其中该奈米结晶物质系以导入奈米溶液后,以结晶法与高温烧结形成,高温烧结温度约为摄氏500—600度。奈米结晶物质之成分,举例而言,可以包含二氧化硅。其中在该高温烧结程序后,包含再次导入该奈米溶液与低温凝聚程序。

所述所述建筑用基材,包含石英砖、陶瓷砖、玻璃、不锈钢。

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