[发明专利]厌氧微生物培养环境快速生成方法

权利要求书

1.一种厌氧微生物培养环境快速生成方法，其特征在于该方法包括如下步骤：

①在密封的透明箱体内加入氧化还原状态指示剂和接种后的培养皿；

②分别向上述箱体内预置的三个容器中加入除氧剂组分、二氧化碳发生剂组分和氢气发生剂组分，迅速密封箱体，整个过程时间控制在2分钟内；

所述的二氧化碳发生剂和氢气发生剂产生的气体体积占箱体体积的19%～23%，其中二氧化碳发生剂产生的气体体积占箱体体积的5%～10%；所述除氧剂组分为焦性没食子酸溶液、氢氧化钠溶液，所述除氧剂加入箱体后，焦性没食子酸物质的量除以箱体体积的值为0.0375～0.05mol/L，氢氧化钠物质的量除以箱体体积的值为0.1125～0.25mol/L；所述二氧化碳发生剂组分为碳酸氢钠溶液、柠檬酸溶液；所述氢气发生剂组分为硼氢化钠和水。

2.根据权利要求1所述的厌氧微生物培养环境快速生成方法，其特征在于步骤①中所述的氧化还原状态指示剂为刃天青指示剂或美兰指示剂，氧化还原状态指示剂是粉末、试纸或溶液。

3.根据权利要求1所述的厌氧微生物培养环境快速生成方法，其特征在于步骤②中加入除氧剂的容器内同时加入除氧辅剂。

4.根据权利要求1所述的厌氧微生物培养环境快速生成方法，其特征在于步骤②中所述的二氧化碳发生剂和氢气发生剂产生的气体体积占箱体体积的21%，其中二氧化碳发生剂产生的气体体积占箱体体积的8%～10%。