[发明专利]取向膜摩擦工艺及设备

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器件的加工工艺和设备，尤其涉及在制备液晶显示器件过程中对已涂敷好的薄膜进行摩擦的工艺，以及摩擦工艺所采用的设备。

背景技术

液晶显示器件的工作原理为：通过改变施加在液晶上的电压改变液晶分子的偏转角度，从而控制偏振光旋转方向和偏振状态，进而控制偏振光能够透过偏振片或者不能透过偏振片，以实现液晶显示器件显示状态的改变。例如：TFT(Thin Film Transistor，薄膜场效应晶体管)液晶显示面板主要包括彩色滤光片基板(CF)、TFT阵列基板、以及滴注在彩色滤光片基板和TFT阵列基板之间的液晶，在通过TFT阵列基板上的TFT电路施加电压后，所述液晶分子发生偏转，从而控制偏振光的旋转方向与偏振状态。

在一般情况下，液晶分子长轴方向的排列是随机取向且分布是杂乱无章的，为了使大部分液晶分子的长轴方向能够沿着一个方向排列，需要在两个基板上形成取向膜，该取向膜上形成具有一定方向性的沟痕，使得液晶分子的长轴方向能够沿着沟痕的方向有规律地排列。对于TFT液晶显示面板而言，需要在彩色滤光片基板和TFT阵列基板上形成取向膜。

取向膜的形成包括涂敷工艺和摩擦工艺：其中涂敷工艺是在清洗后的基板上通过旋转涂敷和印制方式制出用于形成取向膜的薄膜，其中薄膜的材料为聚酰亚胺；摩擦工艺是对制出的薄膜进行摩擦取向。

现有技术中摩擦工艺为：在圆辊上缠有布满细小绒毛的摩擦布形成一个摩擦辊，通过摩擦辊与涂敷有薄膜的基板之间的相对运动，使得摩擦辊上的绒毛对薄膜表面进行摩擦，从而在薄膜上形成了具有一定方向的沟痕，这种具有沟痕的薄膜可称为取向膜。

在实现上述摩擦工艺的过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：

随着液晶显示器件基板的尺寸不断增大，由于基板的尺寸较大，使得摩擦辊与基板之间相对运动距离较长，这样可能导致摩擦过程中，摩擦辊相对于基板的运动角度发生变化，造成取向膜沟痕方向的均匀性难以保证；同时，由于摩擦辊运动的距离变长了，在不改变摩擦辊相对于基板的运动速度的情况下，需要加长摩擦工艺的时间，造成了生产效率的降低。

发明内容

本发明的实施例提供一种取向膜摩擦工艺及设备，以保证取向膜沟痕方向的均匀性，并提高生产效率。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一种取向膜摩擦工艺，包括：

在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承载装置上承载摩擦布，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；

该工艺还包括：

(1)在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；

(2)在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触；

(3)分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。

一种取向膜摩擦设备，包括：

承载装置，用于承载摩擦布；

固定装置，用于固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；

动力系统，用于在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；该动力系统还用于在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触，并分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。

本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备，在进行摩擦时，基板上的薄膜与摩擦布之间是面接触，并且摩擦布的表面是平整的，这样基板上的薄膜就可以一次性地被摩擦出沟痕来，进而形成取向膜。这种薄膜与摩擦布之间采用面接触的方式，可以确保在进行摩擦的瞬间，基板上的薄膜所承受的摩擦的相对运动方向和速度是相同的；而上述摩擦布的平整表面能够保证薄膜的摩擦深度是相同的。由于在本发明实施例提供的摩擦工艺和设备中，进行摩擦的相对运动方向和速度相同，并且摩擦深度相同，能够较好地保证最后摩擦出的沟痕方向和深度的均匀性。

同时，由于本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备，能够在摩擦布和薄膜的一次接触中完成整个基板上薄膜的摩擦，相对于现有技术中需要摩擦辊运动较长的距离才能完成一次摩擦而言，本发明实施例具有更高的摩擦效率，从而提高了生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例1中取向膜摩擦工艺的流程图；

图2为本发明实施例1中取向膜摩擦设备的原理图；