[发明专利]一种钛可动器件的制作方法

权利要求书

1.一种钛可动器件的制作方法，包括以下步骤：

1)在钛基片正面表面涂覆或者淀积一层掩膜；

2)根据器件形状对掩膜进行图形定义；

3)通过等离子体刻蚀技术从正面刻蚀钛基片到所需深度形成刻蚀深槽；

4)除去剩余的掩膜；

5)淀积填充材料将刻蚀深槽填满；

6)去除钛基片表面多余的填充材料，露出钛基片正面表面；

7)采用中间黏附层，并通过压力键合的方法将钛基片正面和另一衬底基片键合；

8)对键合后的钛基片从背面进行化学腐蚀和化学机械抛光，至露出刻蚀深槽；

9)从钛基片背面去除刻蚀深槽中的填充材料，释放可动结构。

2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述步骤1)的掩膜材料为光刻胶，在步骤2)通过光刻显影的方法直接定义图形。

3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述步骤3)采用氯基气体对钛进行等离子体刻蚀。

4.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于：步骤5)所用的填充材料是有机聚合物。

5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于：步骤5)用于填充的有机聚合物是聚对二甲苯。

6.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述步骤7)采用中间层键合方法，所述另一衬底基片的材料与钛的热膨胀系数相匹配。

7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于：所述另一衬底基片是钛片或钠钙玻璃片。

8.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于：所述步骤8)先用酸进行化学腐蚀减薄，接近刻蚀深槽时改用化学机械抛光方法精确控制减薄厚度，直至看到刻蚀图形。

9.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于：所述步骤7)进行键合时不对中间层定义图形，在步骤9)采用氧等离子体刻蚀的方法去除填充材料和可动结构下方的中间层。

10.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于：所述步骤7)先将中间层材料涂覆于另一衬底基片上，然后对中间层定义图形，再与步骤6)所得钛基片进行带图形的键合；在步骤9)去除深槽中的填充材料。