[发明专利]正多边形微腔双稳半导体激光器无效
申请号: | 200810224106.4 | 申请日: | 2008-10-15 |
公开(公告)号: | CN101728760A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 黄永箴;杨跃德;王世江 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/00 | 分类号: | H01S5/00;H01S5/10;H01S5/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 正多边形 微腔双稳 半导体激光器 | ||
1.一种正多边形微腔双稳半导体激光器,其特征在于,该半导体激 光器由平板波导经刻蚀制成,包括一正多边形的谐振腔和一输出波导,且 该输出波导与该正多边形的谐振腔连接或耦合;
其中,该谐振腔为边长为10μm的正三角形,输出波导的一端与三角 形顶点相连接或耦合,在输出波导的另一端得到光输出,输出波导与谐振 腔材料相同并同时刻蚀成形;
该半导体激光器通过输出波导宽度的选择,使得对称和反对称模式具 有相同的阈值增益和不同的输出效率,从而实现双稳输出。
2.根据权利要求1所述的正多边形微腔双稳半导体激光器,其特征 在于,该平板波导由下限制层、有源区和上限制层构成,在该平板波导上 刻蚀形成该半导体激光器时,正多边形和波导的外部区域被刻蚀到下限制 层或衬底,而未刻蚀的多边形和输出波导分别作为谐振腔和定向输出路 径,在输出波导的另一端得到光输出。
3.根据权利要求2所述的正多边形微腔双稳半导体激光器,其特征 在于,所述刻蚀采用干法刻蚀或湿法化学腐蚀方式进行。
4.根据权利要求2所述的正多边形微腔双稳半导体激光器,其特征 在于,有源区采用III-V族体材料、量子阱或量子点材料,限制层采用相应 的半导体限制材料。
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