[发明专利]一种形貌可控的微纳结构薄膜的制备系统及其制备方法

权利要求书

1、一种形貌可控的微纳结构薄膜的制备系统，其包括用于真空镀膜的真空室、设于真空室内的蒸发源及基片，其特征在于还包括用于控制基片倾斜角度的第一步进马达、用于控制基片在其表面平面内做旋转运动的第二步进马达、与第一步进马达连接的脉冲发生控制装置、与第二步进马达连接的马达精度调节装置。

2、根据权利要求1所述的制备系统，其特征在于：基片的侧面固定于第一步进马达的输出轴上，基片的背面固定于第二步进马达的输出轴上。

3、根据权利要求2所述的制备系统，其特征在于：两个马达均通过固定装置固定于真空室内。

4、根据权利要求3所述的制备系统，其特征在于：两个马达的输出轴均通过固定配件固定于基片上，其中配件为耐高温胶制得。

5、根据权利要求4所述的制备系统，其特征在于：蒸发源表面及基片表面的夹角大于70°。

6、一种形貌可控的微纳结构薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：(1)通过脉冲发生控制装置及第一步进马达设定基片与蒸发源的倾斜角度，设定好沉积角度；(2)根据需要沉积于基片上的薄膜形貌，通过马达精度调节装置及第二步进马达设定基片的旋转方式；(3)根据上述设定的参数进行薄膜沉积镀制。

7、根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：脉冲发生控制装置通过脉冲发生数、脉冲频率及脉冲方向分别控制第一步进马达的旋转次数、旋转速度及旋转方向。

8、根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：马达精度调节装置通过将脉冲转角细分为若干等份的细分单元及转轴旋转方向控制单元，来分别控制第二步进马达的旋转角度及旋转方向。

9、根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：(1)通过脉冲发生控制装置及第一步进马达调整基片与蒸发源处于一倾斜角度，马达精度调节装置及第二步进电机停止工作，镀制呈倾斜柱状结构的薄膜；(2)通过脉冲发生控制装置及第一步进马达调整基片与蒸发源处于一倾斜角度，马达精度调节装置及第二步进电机控制基片低速旋转，形成螺旋状结构的薄膜；(3)先通过脉冲发生控制装置及第一步进马达调整基片倾斜一角度，在镀制过一段时间之后，再将基片向反方向倾斜一角度，再过一段时间后恢复至初始之倾斜角度，如此往复数次，形成Z字形结构的薄膜；(4)先通过脉冲发生控制装置及第一步进马达调整基片倾斜一角度，在蒸镀过程中，马达精度调节装置及第二步进电机控制基片高速旋转，形成垂直柱状结构的薄膜。