[发明专利]一种A型胶及采用该A型胶修补铬版白缺陷的方法有效
| 申请号: | 200810217297.1 | 申请日: | 2008-11-07 |
| 公开(公告)号: | CN101403852A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
| 发明(设计)人: | 王金木 | 申请(专利权)人: | 清溢精密光电(深圳)有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/08 | 分类号: | G03F1/08;G03F1/00 |
| 代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人: | 张全文 |
| 地址: | 518057广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 采用 修补 铬版白 缺陷 方法 | ||
1.一种铬版修补胶,其特征在于:包括下述重量份的原料:
金属纳米阻光材料:58%~78%wt、固化剂:20%~40%wt、硅胶:0.1%~1%wt。
2.如权利要求1所述的铬版修补胶,其特征在于:所述金属纳米阻光材料为粉状的金、银、镍、锡或氧化铝中的任一种。
3.如权利要求1所述的铬版修补胶,其特征在于:所述固化剂为环氧树脂或酚醛树脂。
4.如权利要求1所述的铬版修补胶,其特征在于:还包括稀释剂,所述稀释剂的重量份为:0.5%~2%wt。
5.如权利要求4所述的铬版修补胶,其特征在于:所述稀释剂为甲苯、二甲苯、三甲苯、松节油或樟脑油中的任一种。
6.一种采用权利要求1至5中任一项所述的铬版修补胶修补铬版白缺陷的方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)在铬版背面将白缺陷的大致位置标出;
(2)在5~10倍显微镜下找到白缺陷的具体位置;
(3)将专用于铬版的修补笔的针尖除静电后,用修补笔的针尖沾少许所述铬版修补胶,在显微镜下慢慢点于白缺陷上;
(4)将透光的白缺陷全部覆盖后,再使用透射光检查是否透光,否则再取少许所述铬版修补胶进行遮光,直到透射光看不到为止;
(5)检查白缺陷其它部位是否沾有铬版修补胶,否则需要将多余或残留的铬版修补胶清洁干净;
(6)打开反射光确认修补效果是否正常,否则使用乙醇或水擦拭干净后重新修补,直到修补合格为止;
(7)修补合格后再烘烤;
(8)如果烘干后的铬版修补胶有多余部分粘到玻璃上,则使用激光将该部分铬版修补胶去除掉。
7.如权利要求6所述的铬版修补胶修补铬版白缺陷的方法,其特征在于:所述步骤(7)中,烘烤温度为100~300℃,时间为5~10分钟。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清溢精密光电(深圳)有限公司,未经清溢精密光电(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810217297.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





