[发明专利]具有光调制膜的光控制装置无效

专利信息
申请号: 200810215198.X 申请日: 2006-01-19
公开(公告)号: CN101393371A 公开(公告)日: 2009-03-25
发明(设计)人: 藤森敬和;藤井刚 申请(专利权)人: 罗姆股份有限公司
主分类号: G02F1/21 分类号: G02F1/21;G02F1/03
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 有光 调制 控制 装置
【权利要求书】:

1.一种光控制系统,其特征在于,其包括:

谐振器长度被固定的法布里珀罗型谐振器、

向所述法布里珀罗型谐振器照射激光的激光光源、

设置有所述法布里珀罗型谐振器的第一可动式支架、

设置有所述激光光源并且以规定的轴为中心能够倾斜移动以使所述激光光源的光轴方向可变的第二支架、和

调节机构,其对所述第一可动支架输出角度控制信号,使所述第一可动支架倾斜移动来调节所述法布里珀罗型谐振器的设置方向,并且对所述第二可动支架输出角度控制信号,使所述第二支架倾斜移动来调节所述激光光源的光轴,由此,来调节所述激光向所述法布里珀罗型谐振器射入角度。

2.如权利要求1所述的光控制系统,其特征在于,

所述法布里珀罗型谐振器是根据施加的电压而折射率产生变化的光调制膜被反射层夹住设置的光控制装置。

3.如权利要求1或2所述的光控制系统,其特征在于,

其还具备:配置在从所述法布里珀罗型谐振器反射的激光的光路上且校正所述激光光束图形的光学元件。

4.如权利要求3所述的光控制系统,其特征在于,

所述光学元件是棱镜。

5.如权利要求2所述的光控制系统,其特征在于,

所述光控制装置包括:

基板、

所述基板上设置的第一反射层、

设置在所述第一反射层上且通过施加电场而能控制折射率的光调制膜、

设置在所述光调制膜上的第二反射层、

向所述光调制膜施加电场的电极对。

6.如权利要求5所述的光控制系统,其特征在于,

所述光调制膜是折射率与施加电场的平方成正比变化的光电材料。

7.如权利要求6所述的光控制系统,其特征在于,

所述光电材料是钛酸锆酸铅或是钛酸锆酸镧铅。

8.如权利要求5所述的光控制系统,其特征在于,

所述电极对是矩阵状地配置多个。

9.一种校正方法,是根据施加的电压而折射率产生变化的光调制膜被反射层夹住设置的法布里珀罗型谐振器的校正方法,

其特征在于,其包括:

施加电压步骤,其向所述光调制膜施加规定的电压;

测量步骤,其向所述法布里珀罗型谐振器射入激光并测量从该法布里珀罗型谐振器反射的激光的强度;

调节步骤,其调节激光向所述法布里珀罗型谐振器射入的角度以使所述测量步骤测量的激光强度与施加所述规定电压时所应得到的设计值接近,

将所述法布里珀罗型谐振器设置在第一可动式支架上,

将输出所述激光的激光光源设置在第二支架上,该第二支架以规定的轴为中心能够倾斜移动而使所述激光光源的光轴方向可变,

所述调节步骤使所述第一可动支架倾斜移动来调节所述法布里珀罗型谐振器的设置方向,并且使所述第二支架倾斜移动来调节所述激光光源的光轴。

10.如权利要求9所述的校正方法,其特征在于,

所述规定的电压是使所述法布里珀罗型谐振器的反射率在设计上成为最小的电压。

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