[发明专利]金属-绝缘体-金属电容器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810213905.1 申请日: 2008-08-28
公开(公告)号: CN101378057A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 姜明一 申请(专利权)人: 东部高科股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/08;H01L23/522;H01L21/82;H01L21/768
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 李丙林;张英
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 金属 绝缘体 电容器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种金属-绝缘体-金属电容器,包括:

第一金属间绝缘膜;

下部金属层,形成于所述第一金属间绝缘膜上方;

第二金属间绝缘膜,形成于所述下部金属层周围;

第三金属间绝缘膜,形成于所述下部金属层上方;

第一电容器下部金属层、第一电容器绝缘膜、第一电容 器上部金属层和第一覆盖层,顺序地形成于所述第三金属间绝 缘膜的一个部分上方;

第一层间绝缘膜、第四金属间绝缘膜和第二层间绝缘膜, 顺序地形成于包括所述第一覆盖层的所述第三金属间绝缘膜 上方;

第二电容器下部金属层,延伸穿过所述第二层间绝缘膜 和所述第一覆盖层以便所述第二电容器下部金属层连接至所 述第一电容器上部金属层;

第一钝化膜,形成于所述第二电容器下部金属层上方;

第二电容器上部金属层,形成于所述第一钝化膜的一个 部分上方,并且在布置了所述第二电容器下部金属层的区域中 延伸穿过所述第一钝化膜以便所述第二电容器上部金属层连 接至所述第二电容器下部金属层,所述第一电容器下部金属 层、所述第一电容器绝缘膜和所述第一电容器上部金属层构成 第一电容器,而所述第二电容器下部金属层、所述第一钝化膜 和所述第二电容器上部金属层构成第二电容器,其中所述第二 电容器层层压在所述第一电容器上方,以形成并联结构,在所 述并联结构中所述第一电容器和所述第二电容器并联连接;以 及

第二钝化膜至第四钝化膜,顺序地形成于包括所述第二 电容器上部金属层的所述第一钝化膜上方。

2.一种金属-绝缘体-金属电容器的制造方法,包括:

形成第一金属间绝缘膜;

在所述第一金属间绝缘膜上方形成下部金属层;

在所述下部金属层周围形成第二金属间绝缘膜;

在所述下部金属层上方形成第三金属间绝缘膜;

在所述第三金属间绝缘膜上方顺序地形成第一电容器下 部金属层、第一电容器绝缘膜、第一电容器上部金属层和第一 覆盖层;

在包括所述第一覆盖层的所述第三金属间绝缘膜上方形 成第一层间绝缘膜、第四金属间绝缘膜和第二层间绝缘膜;

形成第二电容器下部金属层,所述第二电容器下部金属 层延伸穿过所述第二层间绝缘膜和所述第一覆盖层,并且连接 至所述第一电容器上部金属层;

在所述第二电容器下部金属层上方形成第一钝化膜;

在所述第一钝化膜的一个部分上方形成第二电容器上部 金属层以便所述第二电容器上部金属层在布置了所述第二电 容器下部金属层的区域中延伸穿过所述第一钝化膜,以便所述 第二电容器上部金属层连接至所述第二电容器下部金属层,所 述第一电容器下部金属层、所述第一电容器绝缘膜和所述第一 电容器上部金属层构成第一电容器,而所述第二电容器下部金 属层、所述第一钝化膜和所述第二电容器上部金属层构成第二 电容器,其中所述第二电容器层层压在所述第一电容器上方, 以形成并联结构,在所述并联结构中所述第一电容器和所述第 二电容器并联连接;以及

在包括所述第二电容器上部金属层的所述第一钝化膜上 方顺序地形成第二钝化膜至第四钝化膜。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,在包括所述第一覆盖层的 所述第三金属间绝缘膜上方形成所述第一层间绝缘膜、所述第 四金属间绝缘膜和所述第二层间绝缘膜,包括:

在所述第三金属间绝缘膜的整个上部表面上方沉积所述 第一层间绝缘膜,并且根据化学机械抛光工艺平坦化所述第一 层间绝缘膜;

在所述第一层间绝缘膜上方形成所述第四金属间绝缘 膜;

形成延伸穿过所述第一覆盖层、所述第一层间绝缘膜和 所述第四金属间绝缘膜的接触孔,以部分暴露所述第一电容器 上部金属层;

在包括所述接触孔的所得到的结构的整个上部表面上方 形成所述第二层间绝缘膜;以及

在对应于所述接触孔的区域中蚀刻所述第四金属间绝缘 膜和所述第二层间绝缘膜。

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