[发明专利]一种变焦液晶透镜无效

专利信息
申请号: 200810212351.3 申请日: 2008-09-10
公开(公告)号: CN101672990A 公开(公告)日: 2010-03-17
发明(设计)人: 林肇政 申请(专利权)人: 一品光学工业股份有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02F1/29;G02F1/1337
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 变焦 液晶 透镜
【权利要求书】:

1.一种变焦液晶透镜,其包括单层液晶透镜单元;所述单层液晶透镜单元 利用两片预定厚度的玻璃基板,制成单面电极玻璃基板或双面电极玻璃基板, 再将两片电极玻璃基板通过间隔片以预定间距平行排列,使两片电极玻璃基板 之间形成一层预定厚度的容室空间供封存液晶以形成一液晶层而构成;其特征 在于:

所述单面电极玻璃基板或所述双面电极玻璃基板上设有表面配向电极,所 述表面配向电极为在所述玻璃基板的表面上设置一可透光的铝或银金属膜,再 通过蚀刻方式形成预定的单孔状配向图样以构成光圈,且各电极玻璃基板上的 电极独立控制以分别施以不同强度的电压;

所述玻璃基板表面上的表面配向电极是先在所述玻璃基板的表面上以沉积 法或溅镀法镀上一层金属膜,再在所述金属膜上涂布一光阻层,再在所述光阻 层上罩设一特定配向图样的光罩层,再经显影、蚀刻程序以移除非电极部分的 光阻层及金属膜,而保留电极部分的光阻层及金属膜,再去除光阻层而形成;

当对两电极玻璃基板的表面配向电极施以特定的电压时,调控液晶透镜单 元的液晶层中液晶分子的排向,进而产生特定的折射率梯度,其中,

所述金属蚀刻的表面配向电极在玻璃基板双面上为相同材质、对称并形成 相同配向图样;

其中,单孔状配向图样所形成的光圈直径与液晶层的厚度比值约为2.5。

2.一种变焦液晶透镜,包括双层液晶透镜单元;所述双层液晶透镜单元利 用三片预定厚度的玻璃基板,制成单面电极玻璃基板或双面电极玻璃基板,再 将所述三片电极玻璃基板通过间隔片以预定间距平行排列,使相邻两电极玻璃 基板之间分别形成一层预定厚度的容室空间供封存液晶以形成两层液晶层而构 成;其特征在于:

所述单面电极玻璃基板或所述双面电极玻璃基板上设有表面配向电极,所 述表面配向电极为在所述玻璃基板的表面上设置一可透光的铝或银金属膜,再 通过蚀刻方式形成预定的单孔状配向图样以构成光圈,且各电极玻璃基板上的 电极独立控制以分别施以不同强度的电压;

所述玻璃基板表面上的表面配向电极是先在所述玻璃基板的表面上以沉积 法或溅镀法镀上一层金属膜,再在所述金属膜上涂布一光阻层,再在所述光阻 层上罩设一特定配向图样的光罩层,再经显影、蚀刻程序以移除非电极部分的 光阻层及金属膜,而保留电极部分的光阻层及金属膜,再去除光阻层而形成;

当对相邻两电极玻璃基板的表面配向电极施以特定的电压时,调控各层液 晶透镜单元的液晶层中液晶分子的排向,进而产生特定的折射率梯度,其中,

所述金属蚀刻的表面配向电极在玻璃基板双面上为相同材质、对称并形成 相同配向图样;

其中,单孔状配向图样所形成的光圈直径与液晶层的厚度比值约为2.5。

3.一种变焦液晶透镜,包括三层以上液晶透镜单元所构成;所述三层以上 液晶透镜单元利用四片以上预定厚度的玻璃基板,制成单面电极玻璃基板或双 面电极玻璃基板,再将所述各电极玻璃基板通过间隔片以预定间距平行排列, 使相邻两电极玻璃基板之间分别形成一层预定厚度的容室空间供封存液晶以形 成三层以上液晶层而构成;其特征在于:

所述单面电极玻璃基板或所述双面电极玻璃基板上设有表面配向电极,所 述表面配向电极为在所述玻璃基板的表面上设置一可透光的铝或银金属膜,再 通过蚀刻方式形成预定的单孔状配向图样以构成光圈,且各电极玻璃基板上的 电极可独立控制以分别施以不同强度的电压;

所述玻璃基板表面上的表面配向电极是先在所述玻璃基板的表面上以沉积 法或溅镀法镀上一层金属膜,再在所述金属膜上涂布一光阻层,再在所述光阻 层上罩设一特定配向图样的光罩层,再经显影、蚀刻程序以移除非电极部分的 光阻层及金属膜,而保留电极部分的光阻层及金属膜,再去除光阻层而形成;

当对相邻两玻璃基板的表面配向电极施以特定的电压时,调控各层液晶透 镜单元的液晶层中中液晶分子的排向,进而产生特定的折射率梯度,其中,

所述金属蚀刻的表面配向电极在玻璃基板双面上为对称并形成相同配向图 样;

其中,单孔状配向图样所形成的光圈直径与液晶层的厚度比值约为2.5。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于一品光学工业股份有限公司,未经一品光学工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810212351.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top