[发明专利]投影机曝光装置、曝光方法以及元件制造方法

权利要求书

1.一种照明光学装置，将来自光源的照明光照射于掩模的图案，其特 征在于，包括：

将前述照明光入射的偏光控制机构、将前述偏光控制机构射出的前述 照明光衍射的衍射光学元件与将前述衍射光学元件射出的前述照明光入射 的双折射构件，

其中前述偏光控制机构，将向双折射构件入射的前述照明光的偏光方 向切换，

前述衍射光学元件，将照射于前述掩模的图案的前述照明光的入射角 度范围限制在特定范围，

前述双折射构件，使由前述偏光控制机构切换偏光方向、且由前述衍 射光学元件限制在前述特定范围而入射于前述掩模的图案的前述照明光的 偏光状态成为以S偏光为主成分的偏光状态。

2.根据权利要求1所述的照明光学装置，其特征在于，前述偏光控制 机构使入射的直线偏光的照明光的偏光方向改变。

3.根据权利要求1所述的照明光学装置，其特征在于，前述偏光控制 机构包括1／2波长板与1／4波长板。

4.根据权利要求1所述的照明光学装置，其特征在于，前述衍射光学 元件，更将照射在前述掩模的图案的前述照明光的入射方向限制为特定的 多个离散的方向上。

5.根据权利要求1所述的照明光学装置，其特征在于，前述双折射构 件为不均一波长板。

6.根据权利要求5所述的照明光学装置，其特征在于，前述双折射构 件的形状为连续并且微分连续的函数所表示的形状。

7.根据权利要求5所述的照明光学装置，其特征在于，前述双折射构 件的形状为在所定位置以阶段性的形状变化的阶段状的形状。

8.根据权利要求5所述的照明光学装置，其特征在于，前述双折射构 件沿着前述照明光的行进方向上配置有多个。

9.根据权利要求1至8任一项所述的照明光学装置，其特征在于，包 括光学积分器，配置于前述双折射构件与前述掩模的图案之间。

10.一种投影曝光装置，其特征在于，其包括：

照明光学系统，其为权利要求1至8中任一权利要求所述的光学照明 装置，且将从来自光源的照明光照射至掩模的图案；以及

投影光学系统，将前述掩模的图案的像投影于基板上。

11.一种投影曝光装置，其特征在于，其包括：

照明光学系统，其为权利要求9所述的光学照明装置，且将从来自光 源的照明光照射至掩模的图案；以及

投影光学系统，将前述掩模的图案的像投影于基板上。

12.一种曝光方法，其特征在于，使用权利要求10所述的投影曝光装 置，以前述掩模的图案的像，使作为前述基板的感光体曝光。

13.一种曝光方法，其特征在于，使用权利要求11所述的投影曝光装 置，以前述掩模的图案的像，使作为前述基板的感光体曝光。

14.一种元件制造方法，包括光刻工艺，其特征在于：

在前述光刻工艺中，使用权利要求12所述的曝光方法，将图案转印于 感光体。

15.一种元件制造方法，包括光刻工艺，其特征在于：

在前述光刻工艺中，使用权利要求13所述的曝光方法，将图案转印于 感光体。