[发明专利]一种光刻胶清洗剂组合物

权利要求书

1.一种光刻胶清洗剂组合物，包含季铵氢氧化物、水、烷基二醇芳基醚、二甲基亚砜和缓蚀剂，其特征在于，所述的烷基二醇芳基醚中烷基二醇的碳原子数目为3～18，所述的缓蚀剂包含选自硼酸、硼酸盐和硼酸酯中的一种或多种。

2.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。

3.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的季铵氢氧化物的含量为0.1～10wt％。

4.如权利要求3所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的季铵氢氧化物的含量为1～5wt％。

5.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的水的含量为0.2～15wt％。

6.如权利要求5所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的水的含量为0.5～10wt％。

7.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的烷基二醇芳基醚选自丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、三乙二醇单苯基醚、三丙二醇单苯基醚、三异丙二醇单苯基醚、六缩乙二醇单苯基醚、六缩丙二醇单苯基醚、六缩异丙二醇单苯基醚、丙二醇单苄基醚、异丙二醇单苄基醚和己二醇单萘基醚中的一种或多种。

8.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的烷基二醇芳基醚的含量为0.1～65wt％。

9.如权利要求8所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的烷基二醇芳基醚的含量为0.5～20.0wt％。

10.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的二甲基亚砜的含量为1～98wt％。

11.如权利要求10所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的二甲基亚砜的含量为30～90wt％。

12.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的硼酸、硼酸盐和硼酸酯选自硼酸、苯硼酸、2-甲基苯硼酸、3-甲基苯硼酸、4-甲基苯硼酸、2，3-二甲基苯硼酸、4-乙基苯硼酸、4-丙基苯硼酸、4-丁基苯硼酸、2-甲氧基苯硼酸、3-甲氧基苯硼酸、4-甲氧基苯硼酸、3，4-二甲氧基苯硼酸、2-羧基苯硼酸、3-羧基苯硼酸、4-羧基苯硼酸、2-羟甲基苯硼酸、3-羟甲基苯硼酸、4-羟甲基苯硼酸、2-噻吩硼酸、3-噻吩硼酸、萘硼酸、硼酸铵、四甲基硼酸铵、四乙基硼酸铵、四丙基硼酸铵、四丁基硼酸铵、苄基三甲基硼酸铵、硼酸乙醇胺盐、硼酸二乙醇胺盐、硼酸三乙醇胺盐、硼酸二甘醇胺盐、硼酸异丙醇胺盐、硼酸甲基乙醇胺盐、硼酸甲基二乙醇胺盐、硼酸三甲酯、硼酸三乙酯、硼酸三丙酯、硼酸三丁酯、异戊二醇硼酸酯、双联邻苯二酚硼酸酯、硼酸频哪醇酯和硼酸咪唑啉酯中的一种或多种。

13.如权利要求12所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的硼酸、硼酸盐和硼酸酯选自硼酸、苯硼酸、2-羧基苯硼酸、2-羟甲基苯硼酸、四甲基硼酸铵、四乙基硼酸铵、硼酸乙醇胺盐、硼酸三乙醇胺盐、硼酸二甘醇胺盐和双联邻苯二酚硼酸酯中的一种或多种。

14.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的硼酸、硼酸盐和硼酸酯的总含量为0.01～10wt％。

15.如权利要求14所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的硼酸、硼酸盐和硼酸酯的总含量为0.1～5wt％。

16.如权利要求1所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的光刻胶清洗剂组合物进一步含有选自极性有机共溶剂、表面活性剂和除硼酸、硼酸盐和硼酸酯以外的其它缓蚀剂中的一种或多种。

17.如权利要求16所述的光刻胶清洗剂组合物，其特征在于，所述的极性有机共溶剂含量为≤50wt％，但不包括0wt％；所述的表面活性剂含量为≤5wt％，但不包括0wt％；所述的除硼酸、硼酸盐和硼酸酯的缓蚀剂以外的其它缓蚀剂含量为≤5.0wt％，但不包括0wt％。