[发明专利]投影物镜倍率误差及畸变的检测装置及方法有效

专利信息
申请号: 200810202413.2 申请日: 2008-11-07
公开(公告)号: CN101387833A 公开(公告)日: 2009-03-18
发明(设计)人: 杨志勇 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/00;G01M11/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈 蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 投影 物镜 倍率 误差 畸变 检测 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种投影物镜倍率及畸变的检测装置,其特征在于:包括框架单元,用于将待测投影物镜固定到所述框架单元的投影物镜固定单元,承片单元,承版单元,用于提供曝光光源的照明单元,以及一片测量掩模版和一片转印掩模版,所述转印掩模版一面镀铬且无任何标记图形,镀铬面涂覆有正性光刻胶。

2.根据权利要求1所述的投影物镜倍率及畸变的检测装置,其特征在于:所述投影物镜固定单元以及承版单元分别带动所述投影物镜以及至少一掩模版做垂向位置调节,以适应不同尺寸的投影物镜。

3.根据权利要求1所述的投影物镜倍率及畸变的检测装置,其特征在于:所述承片单元和承版单元均安装掩模版。

4.根据权利要求1所述的投影物镜倍率及畸变的检测装置,其特征在于:所述测量掩模版是具有一定厚度的透明光学平板,并对所述投影物镜工作波长具有较高透过率,其中一面镀铬,且所述镀铬面上还包含有一系列栅格状分布的透光标记。

5.一种投影物镜倍率及畸变的检测方法,其应用于一投影物镜倍率及畸变的检测装置中,所述装置包括框架单元,设置于所述框架单元之中的投影物镜,用于将所述投影物镜固定到所述框架单元的投影物镜固定单元,承片单元,承版单元,以及用于提供曝光光源的照明单元,其特征在于,所述方法包括下列步骤:

制备一测量掩模版,在所述掩模版的镀铬面上形成一系列透光标记,所述透光标记呈栅格状分布于待测投影物镜视场范围内,并记录所述每个标记的名义位置;

取一块没有图形的掩模版,作为一转印掩模版,在其镀铬面上涂覆正性光刻胶;

将所述测量掩模版的镀铬面朝下安装在所述承版单元上,将所述转印掩模版涂覆有光刻胶的镀铬面朝上,安装在所述承片单元上;

调节所述投影物镜及承版单元的高度,使物像处于各自相对于投影物镜的名义位置,实现物像共轭;

按照设定剂量,开启所述照明单元,将所述测量掩模版的图形投影到像方,使所述转印掩模版的光刻胶感光,记录下所述测量掩模版上图形的像;

所述转印掩模版经过显影,刻蚀,在其镀铬面上留下所述测量掩模版经过所述投影物镜成的像;

将所述测量掩模版的镀铬面涂覆正性光刻胶,并将所述镀铬面朝上安装在所述承片单元上,将所述转印掩模版的镀铬面向下安装在所述承版单元上;

按照设定剂量,开启所述照明单元,将所述转印掩模版的图形投影到像方,使所述测量掩模版的光刻胶感光,记录下所述转印掩模版上图形的像;

所述测量掩模版经过显影、刻蚀,在镀铬面上留下所述转印掩模版经过所述投影物镜成的像,此时所述测量掩模版的镀铬层包含了初始标记位置信息和经过投影物镜两次成像所传递的标记位置信息;

通过套刻机测量每个名义位置对应的初始标记位置信息和经过投影物镜两次成像所传递的标记位置信息的位置差,代入投影物镜倍率误差及畸变模型中求解,以获得投影物镜的倍率误差和畸变。

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