[发明专利]用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器及控制系统无效
| 申请号： | 200810201533.0 | 申请日： | 2008-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN101723372A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 吕国华;袁克文;钱承荣 | 申请（专利权）人： | 上海棱光实业股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 徐伟奇 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 多晶 生产 三氯氢硅 汽化 装置 挥发 控制系统 | ||
1.一种用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器，其特征在于，所述的挥发器由挥发槽(10)、喷雾管(11)、加热管(12)，支承件(14)和支承座(17)组成；
所述挥发槽包括挥发腔(101)，该挥发腔两端面密封；左封头端面设有与加热管(12)连通定位安装孔(102)；该挥发腔中部外层设有加热夹套(103)，该夹套的上部和下部各设有进水口(1031)和出水口(1033)；在该挥发腔(101)的下部左右二端设有排污口(104)和三氯氢硅进料口(105)；在该挥发腔(101)的上部设有三氯氢硅和氢气的出料口(106)；该挥发腔(101)设有外接液位传感器的联接口(1071)；该挥发腔(101)右封头端面上设有窥视窗(108)、喷雾管法兰联接器(109)、联接目视液位计的孔(10101)；
所述喷雾管(11)由圆管(111)和法兰(112)组成，圆管(111)一端封闭，另一端设有管接螺纹，法兰位于管接螺纹端，圆管(111)壁上设有若干小穿孔；在挥发槽(10)外，喷雾管(11)法兰端与挥发槽(10)的法兰联接器(109)相连；在挥发槽(10)内，另一端固定在支承件(14)上，支承件(14)二端通过焊接固定在挥发腔(101)腔壁上。
所述加热管(12)由U型盘向加热管组成，所述加热管固定在支承件(15)、(16)上，加热管的进出口管穿过挥发腔(101)定位安装孔(102)，并进行密封焊接，支承件(15)和(16)二端通过焊接固定在挥发腔(101)腔壁上。
2.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器，其特征在于，所述的挥发腔(101)还包括进水孔(1032)和出水孔(1034)；该挥发腔(101)还设有外接液位传感器的联接口(1072)；右封头还装有联接目视液位计的孔(10102)。
3.根据权利要求1或2所述的用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器，其特征在于，所述的挥发槽(10)、喷雾管(11)、加热管(12)均为不锈钢材料。
4.一种用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的控制系统，包括如权利要求1所述的挥发器(1)、有笼浮筒式液位传感控制器(3)、液位计、压力传感控制器(4)、热导式摩尔比检测控制器(5)、主路H2调节阀(6)、旁路H2调节阀(7)、三氯氢硅加液阀(8)、安全阀(9)、炉前工艺气体流量计(10)、还原炉(11)及其它阀门和管线连接组成。
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