[发明专利]一种嵌套式密勒有源电容频率补偿电路无效

专利信息
申请号: 200810201177.2 申请日: 2008-10-14
公开(公告)号: CN101388650A 公开(公告)日: 2009-03-18
发明(设计)人: 马海峰;周锋 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H03F3/42 分类号: H03F3/42
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 代理人: 蒋支禾
地址: 200433*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 嵌套 式密勒 有源 电容 频率 补偿 电路
【说明书】:

技术领域

发明属于集成电路技术领域,具体涉及一种用于三级运算放大器的嵌套 式密勒有源电容频率补偿电路。

背景技术

当今,随着集成电路工艺的发展,MOS管的特征尺寸越来越小并且电源电 压也越来越低。在这种情况下,对于放大器而言传统的共源共栅技术已经不再 适用。要得到高增益就必须级联三级或者三级以上的单级放大器。在输出端有 大负载电容的情况下,发展出既节省面积(补偿电容小),又消耗极低功耗(偏 置电流小)的三级运算放大器频率补偿技术,这一直是人们的研究热点[1-3]。

总体而言,有两大类频率补偿方法,分别为嵌套式密勒电容补偿(NMC) [4-8]和反嵌套式密勒电容补偿(RNMC)[9],两者结构如图1和图2所示。其 中,NMC技术中较典型的有跨导及电容反馈频率补偿(TCFC)[8],它将一个 有源电容引入到了传统的NMC结构当中,得以在频率响应中产生一个右半平面 的零点从而提高相位裕度;RNMC技术中较典型的有反有源反馈频率补偿 (RAFFC)[9],它将一个有源电容引入到了传统的RNMC结构当中,同样得以 在频率响应中产生一个右半平面的零点。在基于NMC和RNMC的设计当中, 它们都取得了各自最好的带宽功耗比以及压摆率功耗比。

然而,这两类电路都存在一定的问题。RNMC相对于NMC结构的优势在 于它只有一个补偿电容负载在输出端。但是通常情况下三级放大器的第三级总 是比前两级需要更大的跨导即更大的偏置电流。RNMC采用了一个正相放大的 第三级,而正相放大需要两路电流分支,如图3所示。这就意味着它需要两路 更大电流的分支,这消耗了很多的功耗。另一方面,虽然NMC结构只需要一个 反相放大的第三级即一路电流分支(如图4所示),但是,它的两个补偿电容都 负载在输出端上。因此,发展出仅消耗RNMC结构一半的第三级电流,同时又 仅有一个补偿电容负载在输出端的电路,具有一定现实意义,符合技术发展潮 流。

参考文献

[1]Leung K N,Mok P K T.Nested Miller compensation in low-power CMOS design.IEEE Trans.Circuits Syst.II,Analog.Digit.Signal Process.2001,48(4),388

[2]Leung K N,Mok P K T.Analysis of multistage amplifier-frequency compensation.IEEE Trans.Circuits Syst.I,Fundam.Theory Appl.,2001,48(9):1041

[3]Leung K N,Mok P K T,Ki W H,et al.Three-stage large capacitive load amplifier with damping-factor-control frequency compensation.IEEE J.Solid-State Circuits,2000,35(2):221

[4]Lee H,Mok P K T.Active-feedback frequency-compensation technique for low-power multistage amplifiers.IEEE J.Solid-State Circuits,2003,38(3):511

[5]Lee H,Mok P K T.Advances in active-feedback frequency compensation with power optimization and transient improvement.IEEE Trans.Circuits Syst.I,2004,51(9):1690

[6]Lee H,Leung K N,Mok P K T.A dual-path bandwidth extension amplifier topology with dual-loop parallel compensation.IEEE J.Solid-State Circuits,2003,38(10):1739

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810201177.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top