[发明专利]全闭路PCB碱性蚀刻液再生及铜回收系统无效

专利信息
申请号: 200810198673.7 申请日: 2008-09-20
公开(公告)号: CN101676229A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 涂方祥 申请(专利权)人: 涂方祥
主分类号: C02F9/06 分类号: C02F9/06;C02F1/24;C02F1/461
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 闭路 pcb 碱性 蚀刻 再生 回收 系统
【权利要求书】:

一种印刷线路板碱蚀刻废液的再生和剩余铜回收系统,其特征在于:

1、采用4个互相嵌套的全闭路循环(根据生产厂家蚀刻工艺的不同,可能增加到5个循环,即增加氨洗水闭路循环),分别是蚀刻液循环圈、萃取剂循环圈、反萃取剂(浓硫酸)循环圈、以及氨气循环圈,四种主要的物质相互作用,但各自完成一个闭路循环,都得到不断重复利用;

2、本发明的另一大特征是:在蚀刻液、萃取剂以及反萃取剂(浓硫酸)3个主循环圈中,每一级的化学反应或物理作用都不要进行完全,分别是混合萃取40-50%(视新鲜蚀刻液和蚀刻废液的成分作适当调整),反萃取80-90%,电解铜75-85%,这样可以大大缩短反应时间,减小设备体积既节省成本,而效果不受影响;

3、含有高浓度Cu离子的蚀刻废液,加入Lix系列萃取剂,以机械加曝气搅拌方式,提取蚀刻液中的部分铜离子,通过萃取时间、液液比、搅拌强度的控制,将蚀刻液中铜离子浓度降至50-75g/l(视乎客户的新鲜蚀刻液Cu离子浓度值,可能会有所调整);

4、萃取后混合液采用多格式重力加气浮分离方法分离萃取剂和蚀刻液,蚀刻液中含萃取剂的量低于1%,分离出的蚀刻液再利用亲油憎水性滤料对其中的微量萃取剂进行在线分离,以保证再生蚀刻液的质量;

5、经过萃取后铜离子浓度降低的蚀刻液,利用比重自动控制,加入含有高浓度Cu离子的原蚀刻废液,确保碱性蚀刻液中Cu离子浓度在80-90g/l(视乎客户的新鲜蚀刻液铜离子浓度值,可能会有所调整)。此调节工序,采用穿孔管空气搅拌,提供混合的同时,将Cu+氧化成Cu2+

6、蚀刻液经过Cu离子浓度调节后,采用水射器将气体氨溶入蚀刻液,将pH调节至8.2-8.6(视乎客户的新鲜蚀刻液pH值,可能会有所调整)。此外,废蚀刻液储存罐、萃取混合阶段、气浮分离阶段和铜离子浓度调节阶段产生的挥发性废气,均以管道引至水射器,将废气中的氨气溶入到废液中;

7、采用化学取样分析法,控制加入其它化学药剂的量,调节成分,然后储存待回用;

8、在权利要求3中分离出来的含铜萃取剂,加入硫酸进行反萃取,控制80-90%的铜被反萃取,然后用多格式重力加气浮分离器将混合液进行分离;

9、权利要求8中分离出来的萃取剂,返回混合萃取工序;硫酸铜溶液则进入电解槽电解得到金属铜,控制75-85%的铜离子被电解,电解槽的极板采用进口不锈钢极板。电解后产生的硫酸+CuSO4返回反萃取工序;

10、经过萃取和反萃取的循环,蚀刻液得以再生使用,而萃取剂和浓硫酸都在系统中反复循环使用,没有污染物的排放。

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