[发明专利]用于制备具有多层膜的金属基板的方法、通过该方法获得的具有多层膜的金属基板、以及涂覆制品无效

专利信息
申请号: 200810190246.4 申请日: 2008-12-26
公开(公告)号: CN101486027A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 久保田健太郎 申请(专利权)人: 关西涂料株式会社
主分类号: B05D7/14 分类号: B05D7/14;B05D3/10;C25D3/54
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 郇春艳;樊卫民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 用于 制备 具有 多层 金属 方法 通过 获得 以及 制品
【说明书】:

技术领域

本发明涉及用于制备具有多层膜的金属基板的方法,涉及通过该 方法获得的具有多层膜的金属基板,并涉及涂覆制品。本发明还涉及 用于形成多层膜的方法。

背景技术

迄今已经知道工业金属基板的表面通过阴极电解或用金属磷酸 盐、金属氧化物和/或相似物处理,作为表面处理以在施用涂层组合物 之前改善粘着力和耐腐蚀性。

为了进一步改善粘着力和耐腐蚀性,用金属磷酸盐、金属氧化物 和/或相似物表面处理后,用含铬酸的水溶液处理金属基板(以下有时 称为“后处理”)。然而,这种处理涉及许多环境问题。

为了避免这些问题,已经提出以下处理。

日本专利特开1981-136979公开了一种磷化处理后的后处理,其 特征在于,在将冷轧钢板、镀锌钢板或其成型产品磷化后,立即用含 螯合剂作为主要组分的处理液进行“后处理”。

日本专利特开1986-199074公开了一种作为在化学转化后“后处 理”的后处理方法,其特征在于,在通过浸渍于反应器中的化学转化 之后,将化学转化液喷涂到从化学转化反应器移除的基板上。

日本专利特开2001-9365公开了用于涂覆金属材料的方法,其特 征在于,在已用磷化液表面处理的金属材料上,用含有特定苯酚化合 物衍生物的水溶液进行“后处理”,然后干燥和粉末涂覆。在该出版 物中公开的处理液与本发明中使用的不同。

此外,日本专利特开1994-299376公开了通过使三价铋离子存在 于酸性水溶液中,并因而将铋沉积在铁族元素表面上而形成膜;以及 该膜形成了具有铁族元素氧化物层的复合膜。该出版物声明这种方法 获得了极好的抑制腐蚀的效果。

此外,日本专利特开2006-249451公开了用于锌或锌合金产品的 表面处理剂,其特征在于含有至少一种含锑、铋、碲或锡的水溶性化 合物。

然而,足够的耐腐蚀性,并且特别是足够的长期耐腐蚀性,诸如 暴露耐腐蚀性等,不能仅通过将铋沉积在将要涂装的表面上并由此形 成膜而获得,如在日本专利特开1994-299376和2006-249451中。此外, 在这些专利公开中,膜在未施加电流的情况下形成,并且这种膜具有 不足的耐腐蚀性。

因此这些专利出版物的方法没有获得足够的粘着力、耐腐蚀性, 并且特别是长期耐腐蚀性,诸如暴露耐腐蚀性等。

附图说明

图1为包括用“铋化合物水溶液”处理步骤的工业线工艺的示意 图。

1.热水洗涤;2.热水洗涤;3.脱脂;4.用工业用水洗涤;5.用纯水 洗涤;6.表面处理(可省略);7.化学转化(可省略);8.水洗(可省 略);9.用铋化合物水溶液处理(根据本发明的方法);10.水洗;11. 放置或热干燥。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于形成具有优良耐腐蚀性,特别是具 有暴露耐腐蚀性多层膜的方法,以及提供一种具有膜的涂覆制品,所 述膜具有这种优良特性。

由于为了达到上述目的而进行的广泛研究,本发明人发现现有技 术的上述问题能够通过用于制备具有多层膜的金属基板的方法解决, 该方法包括:将金属基板浸入铋化合物水溶液(A)中,并在所述金属基 板与电极之间施加电流,从而在所述金属基板上形成涂膜(F1);以及然 后将涂层组合物(B)施用于所述涂膜(F1)上以形成涂膜(F2)。因而完成本 发明。

即,本发明提供以下用于制备具有多层膜的金属基板的方法;通 过所述方法获得具有多层膜的金属基板;涂覆制品;以及用于制备多 层膜的方法。

1.一种用于形成多层膜的方法,其包括将金属基板浸入铋化合 物水溶液(A),并在所述金属基板与电极间施加电流,从而在所述金属 基板上形成涂膜(F1);以及然后将涂层组合物(B)施用于所述涂膜(F1) 上以形成涂膜(F2)。

2.一种具有多层膜的金属基板,其通过根据项1所述的方法获 得。

3.一种用于制备具有多层膜的金属基板的方法,其包括将金属 基板浸入铋化合物水溶液(A),并在所述金属基板与电极间施加电流, 从而在所述金属基板上形成涂膜(F1);以及然后将涂层组合物(B)施用 于所述涂膜(F1)上以形成涂膜(F2)。

4.根据项3所述的方法,其中所述铋化合物水溶液(A)是含有至 少一种选自硝酸铋、乳酸铋和甲氧基乙酸铋的铋化合物的水溶液。

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