[发明专利]光记录介质、光记录装置和光再现装置无效

专利信息
申请号: 200810186891.9 申请日: 2008-11-03
公开(公告)号: CN101452713A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 松村吉晋;高桥诚一郎;木暮一也 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: G11B7/005 分类号: G11B7/005;G11B7/24
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 记录 介质 装置 再现
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种在积层方向上具有多个记录层的光记录介质、和适用于该光记录介质的记录/再现的光记录装置和光再现装置。 

背景技术

近年来,正推进着记录介质的高容量化。记录介质的高容量化除提高记录密度外,也可通过在积层方向上形成多个记录层来实现。但是,若如此积层记录层,则来自再现对象以外的记录层的反射光(杂散光(stray light))入射到光检测器,产生信号品质恶化等问题。 

该问题可通过在第1记录层与第2记录层之间配置使具有特定偏振光方向的光选择性地透过的偏振光分离层来消除。此时,在对第1记录层的记录再现时,以未透过偏振光分离层的偏振光方向向记录介质照射激光,另外,在对第2记录层的记录进行再现时,以透过偏振光分离层的偏振光方向向记录介质照射激光。根据该构成,可抑制来自未构成记录再现对象的记录层的杂散光,实现信号品质的提高。 

但是,根据这种构成,相对于第1记录层与第2记录层,偏振光方向分别被固定,所以一个记录介质中最多仅能配置两个记录层。即,记录介质的高容量化最终受到配置两层记录层的限制。 

发明内容

本发明的目的在于可不受记录层数量的限制地实现高容量化。 

本发明的第1方面涉及一种光记录介质。涉及该方面的光记录介质具备第1记录层、和相对所述第1记录层沿积层方向排列配置的第2记录层。这里,在所述第1记录层和所述第2记录层中进行记录,以使基于再现所述第1记录层时由所述第1记录层调制的光的信号的频带、与基于该再现时由所述第2记录层调制的光的信号的频带互不相同。 

本发明的第2方面涉及一种在沿积层方向具有多个记录层的光记录介质中进行记录的光记录装置。涉及该方面的光记录装置具备以对应于第1记录层的第1调制方式来调制记录信号的第1调制电路;以与沿所述积层方向邻接所述第1记录层的第2记录层相对应的第2调制方式来调制记录信号的第2调制电路;和根据被作为记录对象的记录层,来选择所述第1调制电路和所述第2调制电路的其中之一作为调制所述记录信号的调制电路的选择电路。这里,所述第1调制方式和所述第2调制方式是调制后的信号频带互不相同的调制方式。 

本发明的第3方面涉及一种光再现装置。涉及该方面的光再现装置再现沿积层方向具有多个记录层的光记录介质,具备:从基于由所述光记录介质检测出的已调制的光的再现信号中,分别抽取对应于第1记录层的第1频率成分和与沿积层方向邻接所述第1记录层的第2记录层相对应的第2频率成分的抽取电路;解调所述第1频率成分的再现信号的第1解调电路;解调所述第2频率成分的再现信号的第2解调电路;和根据被作为再现对象的记录层,来选择由所述第1解调电路进行了解调的第1解调信号和由所述第2解调电路进行了解调的第2解调信号的其中之一作为该再现中的解调信号的选择电路。 

附图说明

本发明的所述及其他目的与新的特征通过参照下面的附图并阅读下示的实施方式的说明而变得显而易见。 

图1A和图1B是表示实施方式的光盘的构成图。 

图2A是表示实施方式的光提取装置的光学系统的俯视图。 

图2B是表示实施方式的光提取装置的光学系统的局部侧面图。 

图3是表示实施方式的光盘装置的构成图。 

图4A和图4B是表示实施方式的调制方式(代码变换表格)的图。 

图5A和图5B是表示实施方式的第1、第2滤波电路的滤波特性的图。 

图6是表示实施方式的光盘装置的再现时的处理流程图。 

图7是表示实施方式的光盘装置的记录时的处理流程图。 

但是,附图只是用于说明,不限定本发明的范围。 

具体实施方式

下面,参照附图来说明本发明的实施方式。其中,本实施方式中示例了可记录种类的光盘,作为光记录介质。 

图1A、B表示实施方式的盘(光记录介质)10的构成。其中,图1A是表示将局部切口成扇形的盘10的示意图,图1B是示意性地表示图1A的A部分的截面构造的图。 

如图1B所示,盘10构造成在基板11上沿积层方向依次配置记录层12与中间层13。基板11由聚碳酸酯构成。记录层12通过将记录膜和半透过膜进行积层而形成。在记录层12的膜构造和材料中,使用与现有的多层盘一样的膜构造和材料。中间层13由UV固化树脂等透光性树脂构成。 

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