[发明专利]单层型电子照相感光体和图像形成装置有效

专利信息
申请号: 200810186465.5 申请日: 2008-12-19
公开(公告)号: CN101470363A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: 浜崎一也;冈田英树;岩下裕子;市口哲也;宍户真 申请(专利权)人: 京瓷美达株式会社
主分类号: G03G5/04 分类号: G03G5/04;G03G15/08
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 代理人: 李雪春;武玉琴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单层 电子 照相 感光 图像 形成 装置
【权利要求书】:

1.一种单层型电子照相感光体,其特征在于包括:

基体;和在所述基体上设置的单层感光层;其中,

所述感光层包含电荷产生剂、空穴输送剂、电子输送剂和粘结树脂,

所述空穴输送剂是用下述通式(1)表示的化合物,

所述电子输送剂是从用下述通式(3)~(5)表示的化合物所构成 的组中选择的至少一种,并且所述电子输送剂在25℃的条件下对四氢呋 喃的溶解度为27~50质量%,

通式(1)中:Ar1表示单环的芳基,该芳基是非取代芳基或者是作 为取代基具有碳原子数为1~4的烷基的芳基;Ar2表示亚苯基,所述亚 苯基是非取代亚苯基或者是作为取代基具有碳原子数为1~4的烷基的亚 苯基;X1表示氢原子或者单环的芳基,该芳基是非取代芳基或者是作为 取代基具有碳原子数为1~4的烷基的芳基;Y1表示单环的芳基,该芳基 是非取代芳基或者是作为取代基具有碳原子数为1~4的烷基或者用下述 通式(2)表示的取代基的芳基,

通式(2)中:R1表示氢原子;R2表示碳原子数为1~4的烷基;Z1表示氢原子;取代基数m和n表示0~4的整数,

通式(3)中,R3表示卤素原子、碳原子数为1~6的取代或非取代 烷基或者碳原子数为6~30的取代或非取代芳基,R4表示碳原子数为1~ 6的取代或非取代烷基、碳原子数为6~30的取代或非取代芳基或者用- O-R5表示的基,R5表示碳原子数为1~6的取代或非取代烷基、碳原子 数为6~30的取代或非取代芳基或者碳原子数为7~30的取代或非取代 芳烷基,

通式(4)中,R6和R7分别独立表示碳原子数为1~6的取代或非取 代烷基,

通式(5)中,R8~R12分别独立表示氢原子、卤素原子或者碳原子 数为1~8的取代或非取代烷基。

2.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,所 述空穴输送剂满足如下溶解析出量:将在外径为30mm、长度为40mm 的所述基体上形成有厚度为30μm的树脂层的基体浸渍于液体温度为25 ℃的30g甘油三油酸酯中20小时时,用所述通式(1)表示的化合物相 对于甘油三油酸酯的溶解析出量在1~10mg的范围内,其中,

所述树脂层的组成为:相对于100质量份聚碳酸酯树脂,配入有80 质量份用所述通式(1)表示的化合物。

3.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,所 述电子输送剂的含量相对于所述100质量份的粘结树脂,在10~70质量 份的范围内。

4.根据权利要求1所述的单层型电子照相感光体,其特征在于,所 述基体的外径在10~25mm的范围内。

5.一种图像形成装置,其特征在于包括:

像载体;

带电装置,用于使所述像载体表面带电;

曝光装置,用于使所述像载体表面曝光,形成静电潜影;

显影装置,用于使所述静电潜影作为调色剂像显影;以及

转印装置,用于把所述调色剂像从所述像载体转印到被转印件上; 其中,

所述像载体是权利要求1-4中任意一项所述的单层型电子照相感光 体。

6.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,所述显影装 置把调色剂提供给在所述单层型电子照相感光体上形成的静电潜影进行 显影,并且回收残留在所述单层型电子照相感光体表面的调色剂。

7.根据权利要求5所述的图像形成装置,其特征在于,所述带电装 置、所述显影装置和所述转印装置中至少有一个与所述单层型电子照相 感光体接触。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷美达株式会社,未经京瓷美达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810186465.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top