[发明专利]一种凡立水含浸装置与含浸方法

权利要求书

1.一种凡立水含浸装置，其包括：

储液容器，是可供凡立水容装储放的半密闭槽体，其具有设于槽体上方的盖板，以及设于槽体下方的注液孔，作为供凡立水输入与输出槽体的孔口；

真空腔体，是可抽真空、密闭的腔体，在其上方有一可开启的盖板，同样于其下方设有一注液孔，通过管路连接而与该储液容器的另一注液孔相通，可适时将储液容器内的凡立水，因真空负压作用抽吸进入腔体内，而能供放置于容器内的待加工物进行含浸作业者；

真空泵浦，是提供将该真空腔体抽取成真空状态的动力来源；

根据以上所述，首先利用该真空泵浦运作而将该真空腔体抽成真空状态，接着打开该储液容器与该真空腔体的注液孔，使凡立水由储液容器进入真空腔体内至适当液位后，即可进行含浸作业。

2.如权利要求1所述的一种凡立水含浸装置，其特征在于，所述储液容器另具有一注液孔，是设于槽体的下方、位于该注液孔设置处的另一侧，设有排液孔提供作为更换凡立水的排出管道。

3.如权利要求1所述的一种凡立水含浸装置，其特征在于，所述储液容器的外侧设有与槽体内部连通、而可检视槽体内液面高度的液位检视管。

4.如权利要求1所述的一种凡立水含浸装置，其特征在于，所述真空腔体的注液孔与该储液容器的注液孔之间，设有闸阀控制二者的连通状态。

5.如权利要求1所述的一种凡立水含浸装置，其特征在于，所述真空腔体于上方设有一泄压真空阀。

6.如权利要求1所述的一种凡立水含浸装置，其特征在于，所述真空腔体于上方设有除气孔。

7.如权利要求1所述的一种凡立水含浸装置，其特征在于，所述真空腔体与该真空泵浦之间设有多个真空阀。

8.如权利要求1所述的一种凡立水含浸装置，其特征在于，所述真空腔体另加设有真空计，以控制腔体内真空度。

9.一种采用如权利要求1-8中任意一项的凡立水含浸装置的凡立水含浸方法，其操作步骤如下：

步骤1：关闭该真空阀，在该真空腔体内部完全净空的状态之下，将欲进行含浸加工的待加工对象置入于腔体内，盖上其盖板后使真空腔体变成完全密封的容器；

步骤2：打开将储液容器的盖板，补充充填液体至80％，并经由液位检视管，确认注入液位；

步骤3：将二真空阀打开关闭，并启动该真空泵浦运作，而进行将该真空腔体抽成真空状态的动作者；

步骤4：透过该真空计控制该真空腔体内真空度，待到达一定设定值后，再关闭该真空阀，并令该真空泵浦停止运转；

步骤5：接着，依序打开该真空阀，亦即打开该真空腔体与该储液容器间的通路，使于该储液容器内含浸用的液体--凡立水因真空腔体内部负压的状态，可以由该注液孔通过该真空阀后由另一注液孔进入该真空腔体内，进行对该真空腔体的注液作业；

步骤6：在一边进行注液作业的同时，置放于该真空腔体内的待加工物亦同时进行了含浸动作，此时，亦因为有该真空计及液位计对该真空腔体内真空度的控制作用，一旦注液高度达到，既立刻关闭真空阀停止液体进入真空腔体，进入持压含浸历时；

步骤7：最后，待持压含浸动作完成后，打开该真空阀泄压，以及真空阀，使得真空腔体内的液体因位差关系，回流储液容器，并将真空腔体盖板打开，将加工物取出，即可再接续进行下一次的含浸作业。

10.如权利要求9所述的一种凡立水含浸方法，其特征在于，所述步骤五中该储液容器内含浸用的液体一凡立水可以由该注液孔通过该真空阀后，由另一注液孔进入该真空腔体内。

11.如权利要求9所述的一种凡立水含浸方法，其特征在于，所述真空计及液位计能对该真空腔体内真空度进行控管，一旦注液高度达到、持压时间结束，则注入于该真空腔体内液体会因位差而自动回流回该储液容器。