[发明专利]光刻装置的浸没损坏控制

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

构造成保持基底的基底台；

配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统；

将浸没液体提供到投影系统的下游透镜和基底之间的空间的流体供给系统；以及

检测浸没流体从流体供给系统的泄漏的泄漏检测系统，所述泄漏检测系统包括布置在流体供给系统的潜在泄漏区的两个相互绝缘的电导体，所述泄漏检测系统构造成通过测量相互绝缘的电导体之间的电容来检测泄漏；

其中，两个电导体包括两个同心的环状导体；

保持浸没流体的容器定位成与所述两个电导体同心，并且由所述两个电导体所围绕。

2.如权利要求1所述的光刻装置，其中电导体通过大体上不导电的层与潜在泄露的浸没流体隔开。

3.如权利要求2所述的光刻装置，其中大体上不导电的层包括塑料。