[发明专利]磁记录介质和磁记录装置无效
申请号: | 200810181566.3 | 申请日: | 2008-11-27 |
公开(公告)号: | CN101546563A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 田口润;栗田亮 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
主分类号: | G11B5/66 | 分类号: | G11B5/66;G11B5/65 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李 辉 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 介质 装置 | ||
1、一种磁记录介质,该磁记录介质包括:
基片;
设置在所述基片上的软磁性衬垫层;
设置在所述软磁性衬垫层上的中间层;
设置在所述中间层上并且具有垂直磁各向异性的第一记录层;
设置在所述第一记录层上的交换耦合能量控制层,该交换耦合能量 控制层由粒状材料制成,在该粒状材料中向包括钌的金属添加了氧化物; 以及
设置在所述交换耦合能量控制层上的第二记录层,该第二记录层具 有垂直磁各向异性,并且经由所述交换耦合能量控制层与所述第一记录 层强磁性耦合。
2、根据权利要求1所述的磁记录介质,其中,所述氧化物是二氧化 硅。
3、根据权利要求2所述的磁记录介质,其中,所述二氧化硅是按3 个原子百分比到6个原子百分比的范围添加的,包括3个原子百分比和6 个原子百分比。
4、根据权利要求1所述的磁记录介质,其中,所述交换耦合能量控 制层的厚度在0.3nm到0.5nm的范围内,包括0.3nm和0.5nm。
5、根据权利要求1所述的磁记录介质,其中,所述粒状材料是通过 向所述氧化物添加钌而制成的。
6、一种磁记录装置,该磁记录装置包括:
磁记录介质;和
面对所述磁记录介质的磁头,
其中,所述磁记录介质包括:基片;设置在所述基片上的软磁性衬 垫层;设置在所述软磁性衬垫层上的中间层;设置在所述中间层上并且 具有垂直磁各向异性的第一记录层;设置在所述第一记录层上的交换耦 合能量控制层,该交换耦合能量控制层由粒状材料制成,在该粒状材料 中向包括钌的金属添加了氧化物;以及设置在所述交换耦合能量控制层 上的第二记录层,该第二记录层具有垂直磁各向异性,并且经由所述交 换耦合能量控制层与所述第一记录层强磁性耦合。
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