[发明专利]掩模坯件的制造方法及涂布装置有效
申请号: | 200810177837.8 | 申请日: | 2008-06-27 |
公开(公告)号: | CN101470343A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 宫田凉司;浅川敬司 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社;HOYA电子马来西亚有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/16 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩模坯件 制造 方法 装置 | ||
1.一种掩模坯件的制造方法,其包括如下工序:使从收容有液状的 抗蚀剂的液槽通过被收纳在该液槽内的喷嘴到达喷嘴前端开口部的抗蚀 剂接触在具有用于形成转印图案的薄膜的基板的被涂布面上,通过使上述 基板和上述喷嘴相对移动,在上述被涂布面上涂布抗蚀剂来形成抗蚀剂 膜,上述喷嘴被安装在通过设置在上述液槽的底面的透孔而使上端侧进入 到上述液槽内的支承杆的上端部,
其特征在于,
在对上述被涂布面涂布抗蚀剂的过程中预先针对各种大小的基板设 定抗蚀剂的涂布量,并考虑该设定的抗蚀剂的涂布量,来设定基于滴下机 构或压出机构的抗蚀剂的补给量,向上述液槽内补充抗蚀剂,同时进行控 制,以使上述液槽内的抗蚀剂的液面高度一定,其中抗蚀剂的补给量是与 通过一次涂布而消耗的液槽内的抗蚀剂量大致相同的量。
2.一种掩模坯件的制造方法,其包括如下工序:使从收容有液状的 抗蚀剂的液槽通过被收纳在该液槽内的喷嘴到达喷嘴前端开口部的抗蚀 剂接触在具有用于形成转印图案的薄膜的基板的被涂布面上,通过使上述 基板和上述喷嘴相对移动,在上述被涂布面上涂布抗蚀剂来形成抗蚀剂 膜,上述喷嘴被安装在通过设置在上述液槽的底面的透孔而使上端侧进入 到上述液槽内的支承杆的上端部,
其特征在于,
在对上述被涂布面涂布抗蚀剂的过程中预先针对各种大小的基板设 定涂布中因液槽内的抗蚀剂的消耗而引起的液面高度的下降量,考虑该设 定的液面高度的下降量,并设定基于提升部件的上述液槽内的抗蚀剂的提 升量,提升上述液槽内的抗蚀剂来控制液面高度,以使上述液槽内的抗蚀 剂的液面高度一定。
3.一种涂布装置,其特征在于:
该涂布装置具有:
喷嘴,其包括与前端开口部连通的间隙,经过上述间隙将抗蚀剂导向 上述前端开口部;
液槽,其收纳所述喷嘴,并收容抗蚀剂,通过使上述喷嘴的至少一部 分浸渍在上述抗蚀剂中而将抗蚀剂供应给上述喷嘴;
喷嘴接触/分离机构,其使上述喷嘴的上述前端开口部接近基板的被涂 布面,使被导向上述前端开口部的抗蚀剂接触到上述基板的被涂布面;
移动机构,其在通过上述喷嘴接触/分离机构使上述喷嘴的上述前端开 口部接近基板的被涂布面的状态下,使上述基板和上述喷嘴相对移动;以 及
控制机构,其控制上述喷嘴接触/分离机构和上述移动机构,
其中,上述喷嘴被安装在通过设置在上述液槽的底面的透孔而使上端 侧进入到上述液槽内的支承杆的上端部,上述液槽具有液面高度控制机 构,在对上述被涂布面涂布抗蚀剂的过程中,该液面高度控制机构进行控 制以使上述液槽内的抗蚀剂的液面高度一定,
上述液面高度控制机构是预先针对各种大小的基板设定抗蚀剂的涂 布量,并考虑该设定的抗蚀剂的涂布量,来设定抗蚀剂的补给量,向上述 液槽内补充抗蚀剂,同时控制液面高度的滴下机构或压出机构,其中抗蚀 剂的补给量是与通过一次涂布而消耗的液槽内的抗蚀剂量大致相同的量。
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