[发明专利]液晶装置及液晶装置的制造方法以及电子设备

说明书

技术领域

本发明涉及具有反射显示区和透射显示区的液晶装置及液晶装置的制造方法以及电子设备。

背景技术

作为液晶装置，已知有如下这样的液晶显示装置，包括：多个扫描线和多个信号线交叉的阵列基板，以及夹持液晶层与该阵列基板相面对的相对基板；在扫描线和信号线交叉的交叉部，配置各自具有具备反射外部光的装置和相位差膜(phase difference film)的反射部的红、蓝、绿的像素，当设红的像素的相位差膜中的相位差值(phase difference value)为rR、绿的像素的相位差膜中的相位差值为rG、蓝的像素的相位差膜中的相位差值为rB时，rR>rG、rG>rB、rR>rB中至少1个成立，并且，120nm<rR<180nm、且110nm<rG<170nm、且80nm<rB<140nm(专利文献1)。

上述液晶显示装置考虑红、蓝、绿的像素的光学特性，通过规定这些像素的相位差值，在反射显示时来实现防止对比度的下降和降低着色。

此外，作为另一种液晶装置，已知有如下的另一种液晶显示装置，由液晶层、夹持该液晶层的第1基板及第2基板构成，在一像素内具有反射显示部和透射显示部，反射显示部中的液晶层的延迟(retardation)为四分之一波长，相位差板(phase difference plate)的延迟是二分之一波长(专利文献2)。

上述另一种液晶显示装置，通过采用所谓半透射型IPS方式，进行上述光学设计，就能够实现与透射型IPS方式同等的宽视角。

在这些液晶显示装置中，在面向液晶层的一侧形成相位差膜(相位差板)。作为这样的内置型的相位差膜的形成方法，在专利文献1中列举了在基板上涂敷高分子液晶聚合物和感光性树脂的混合物，利用照相蚀刻法(photo-etching process)进行构图的例子。

专利文献1：JP特开2006-292847号公报

专利文献2：JP特开2005-338256号公报

发明内容

但是，在上述相位差膜的形成方法中，当利用照相蚀刻法进行构图时，在相位差膜的外周部，存在膜厚变化。由此，产生由膜厚变化引起的相位差值的变化，在实际的显示中，存在因漏光而导致对比下降的问题。

此外，存在所谓需要对应红、蓝、绿的像素来构图相位差膜，制造工序复杂的课题。

并且，通过照相蚀刻法进行构图的情况下，存在一大半相位差膜形成材料就会无用的课题。

本发明为了解决上述课题的至少一部分，可以作为以下的实施方式或适用例来实现。

[适用例1]本适用例的液晶装置，其特征在于，包括：一对基板，被上述一对基板夹持的液晶层，在1个像素区域内具有反射显示区和透射显示区的多个像素，以及设置在上述反射显示区中的相位差膜；上述相位差膜被设置在上述一对基板中的一个基板的上述液晶层侧；在上述一个基板的上述液晶层侧设置区分上述相位差膜的遮光性的隔壁部。

根据此结构，由于用遮光性的隔壁部区分相位差膜，所以抑制了相位差膜的外周部的膜厚变化，能够降低因该外周部的相位差值的变化引起的漏光。此外，能够防止该漏光泄漏到透射显示区。即，能够提供一种在反射显示模式及透射显示模式的任何一个中都可得到规定的对比、图像质量好的液晶装置。

[适用例2]在上述适用例的液晶装置中，优选为，将包括多个颜色的滤色元件的滤色片设置在上述一个基板的上述液晶层侧；上述隔壁部分别区分上述多个颜色的滤色元件，并且还区分上述相位差膜。

根据此结构，隔壁部同时区分滤色元件和相位差膜。因此，能够以简单的结构提供可进行彩色显示的图像质量好的液晶装置。

[适用例3]在上述适用例的液晶装置中，设置在上述一个基板的上述反射显示区中的上述滤色元件，也可以面向上述液晶层而层叠在上述相位差膜之上。

在液晶装置中，面对液晶层而设置的各种功能层，优选具有不使杂质扩散进液晶层的结构。根据此结构，设置在反射显示区中的滤色元件，能够保护相位差膜。因此，通过使滤色元件作为保护层起作用，就能够防止来自相位差膜的杂质的扩散。因此，可提高形成相位差膜的材料的选择的自由度。

[适用例4]在上述适用例的液晶装置中，其特征在于，在上述一个基板的上述液晶层侧设置有规定上述相位差膜的相位迟滞轴(slow axis)方向的取向膜。