[发明专利]具有润滑装置的滚珠螺杆及其润滑装置

说明书

技术领域

本发明设计一种滚珠螺杆，还设计一种润滑装置。

背景技术

滚珠螺杆主要由一螺帽通过自由滚动的滚珠与螺杆轴螺合所组成，并利用 自由滚动的滚珠使螺帽与螺杆轴相对滑移，由于其具有绝佳的顺畅性与精准度， 故被广泛的运用于各种需要精密移动的机具上，例如各类微细加工或半导体制 程设备上，因此螺旋轨道上的润滑是相当重要的。但是如果滚珠螺杆长时间缺 乏润滑，可能造成螺帽和螺杆间的摩擦加大而加速滚珠螺杆的磨耗。

而为有效降低滚珠螺杆因摩擦所产生的磨耗，传统滚珠螺杆的润滑系统可 分成两种：第一种是将润滑系统加挂在螺帽两端，将润滑油存在润滑系统中， 再由吸油物吸收润滑油后直接涂抹在螺杆表面上来润滑螺杆上的螺纹道；第二 种是将螺帽两端的刮刷器使用含油材质制造，使用含油材质直接与螺杆表面接 触来润滑螺杆的螺纹道。

现有的自润式螺杆是采用将外挂配件设置在螺帽上的润滑方式，配件的内 部塞满吸满润滑油的羊毛毡，当螺杆相对于螺帽旋转时，羊毛毡将润滑油涂抹 至螺杆螺纹道上，产生润滑的效果。在许多电子半导体产业对于无尘室的要求 使用条件下，这种润滑方式只能采用润滑油作为润滑剂，但因润滑油为液体容 易产生粒子，以至于无法使用于电子半导体产业的无尘室等注重清洁的使用环 境，因此现有的设计无法运用于多数电子半导体产业的制程上。

然而，为解决上述的问题，美国专利第5782135号专利案，如图9所示， 提供一种润滑方式，在滚动件31之间设置一间隔珠32，所述的间隔珠为固体润 滑材质(例如二硫化钼、金、银、铅或PTFE等)，凭借滚珠螺杆运行时所述的间 隔珠32与所述的滚动件31产生磨耗，而由磨耗产生的磨屑来补充螺杆、螺帽 以及滚动件31之间的润滑。

但此技术是凭借滚动件31与间隔珠32的摩擦而达到润滑效果，故有以下 问题点产生：

1.间隔珠如磨耗完毕即无润滑效果，且如缩小至某尺寸时，可能会造成卡珠 或干扰滚动件的正常运转。

2.凭借间隔珠作为润滑的补充，其补充效率不稳定，难以控制，易造成润滑 不足导致螺杆寿命减短。

另外，如以润滑脂来取代润滑油就可应用于电子半导体产业的无尘室等注 重清洁的使用环境，但目前的润滑装置都需要外部提供动力来推动润滑脂至滚 珠螺杆内部(因为润滑脂流动性不高，故需外部提供动力)，故在基本的配件上就 比上述所有润滑装置来的多，且所占空间也较大，相对的所花费成本也较高， 故还是有需要改善的必要。

发明内容

本发明首要目的在于，以润滑脂来对滚珠螺杆作润滑，且装设润滑脂的润 滑装置是不需外部提供动力即可使润滑脂传递至滚珠螺杆中，以达到润滑效果。

本发明次要目的在于，方便使用者观察润滑脂消耗情形，以抓准添加润滑 脂的时间，预防润滑不足的情形产生。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案包括：

一种具有润滑装置的滚珠螺杆，其特征在于，包含：

一杆轴，其外缘设有一螺旋状的滚动沟，以及至少一导引沟；

一螺帽，设有一穿孔，所述的穿孔内缘设有相对所述的滚动沟的滚动槽， 所述的滚动沟以及滚动槽构成一负荷路径；

复数滚动件，容置在所述的负荷路径中；

回流元件，装设在所述的螺帽上，供所述的滚动件循环回流；

润滑装置，包含一套件、一导引件，所述的套件固定在所述的螺帽端部， 且随着所述的螺帽做轴向运动，所述的套件设有容置孔提供所述的导引件设置； 所述的导引件设有第二通孔以及螺旋部，所述的第二通孔提供所述的杆轴穿设， 且所述的第二通孔内缘设有与所述的导引沟相互嵌合的固定部，所述的螺旋部 之间形成一螺旋槽，所述的螺旋槽的端部设有出油孔，而所述的螺旋槽与所述 的套件的容置孔构成一螺旋的导引道。

为实现上述目的，本发明采用的技术方案还包括：

一种具有润滑装置的滚珠螺杆，其特征在于，包含：

一杆轴，其外缘设有一螺旋状的滚动沟，以及至少一导引沟；

一螺帽，设有一穿孔，所述的穿孔内缘设有相对所述的滚动沟的滚动槽， 所述的滚动沟以及滚动槽是构成一负荷路径；

复数滚动件，容置在所述的负荷路径中；

回流元件，装设在所述的螺帽上，是提供所述的滚动件循环回流；