[发明专利]负极基材有效
申请号: | 200810176262.8 | 申请日: | 2008-11-10 |
公开(公告)号: | CN101436658A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
发明(设计)人: | 三隅浩一;渡边充广;本间英夫 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社;株式会社关东学院大学表面工学研究所 |
主分类号: | H01M4/02 | 分类号: | H01M4/02;H01M4/66;H01M4/04;H01M10/36;H01M10/40;C08L63/00;C08L61/06;C08L25/18;C08L33/00;G03F7/00 |
代理公司: | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 日本神奈川县川*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 负极 基材 | ||
1.一种用于锂离子二次电池的负极基材,其特征在于:其是在具备通过热压印法或 者光压印法而成形的图案化有机膜的支持体上形成金属膜而成;
所述金属膜是通过镀覆处理所形成的金属膜,所述镀覆处理是包括化学镀铜处理以 及化学镀镍处理中的至少1种镀覆处理、和继而化学镀锡处理以及电镀锡处理中的至少 1种镀覆处理的多阶段镀覆处理。
2.根据权利要求1所述的负极基材,其特征在于:所述图案化有机膜是通过热压印 法,对含有选自环氧树脂、酚醛树脂、羟基苯乙烯树脂、丙烯酸类树脂以及甲基丙烯酸 类树脂中的至少1种树脂成分的树脂组合物进行成形而成的图案化有机膜。
3.根据权利要求1所述的负极基材,其特征在于:所述图案化有机膜是通过光压印 法,对含有选自环氧树脂、羟基苯乙烯树脂、丙烯酸类树脂以及甲基丙烯酸类树脂中的 至少1种树脂成分的树脂组合物进行成形而成的图案化有机膜。
4.根据权利要求1所述的负极基材,其特征在于:所述图案化有机膜是深宽比为0.1 以上的图案化有机膜。
5.一种锂离子二次电池,其特征在于:其含有根据权利要求1~4中任一项所述的负 极基材、电解质和可以吸留以及释放此电解质的正极基材。
6.一种用于锂离子二次电池的负极基材的制造方法,其特征在于包括:
(i)在支持体上涂布一种树脂组合物,所述树脂组合物含有选自环氧树脂、酚醛 树脂、羟基苯乙烯树脂、丙烯酸类树脂以及甲基丙烯酸类树脂中的至少1种树脂成分, 来形成有机膜的步骤;
(ii)加热处理所述有机膜,并且按压模具,来形成图案化有机膜的步骤;
(iii)通过镀覆处理在所述图案化有机膜上形成金属膜的镀覆处理步骤,
所述镀覆处理是包括化学镀铜处理以及化学镀镍处理中的至少1种镀覆处理、和继 而化学镀锡处理以及电镀锡处理中的至少1种镀覆处理的多阶段镀覆处理。
7.一种用于锂离子二次电池的负极基材的制造方法,其特征在于包括:
(i)在支持体上涂布一种树脂组合物,所述树脂组合物含有选自环氧树脂、羟基 苯乙烯树脂、丙烯酸类树脂以及甲基丙烯酸类树脂中的至少1种树脂成分,来形成有机 膜的步骤;
(ii)对所述有机膜按压模具,接着使支持体的整个面光固化,由此形成图案化有 机膜的步骤;
(iii)通过镀覆处理在所述图案化有机膜上形成金属膜的镀覆处理步骤,
所述镀覆处理是包括化学镀铜处理以及化学镀镍处理中的至少1种镀覆处理、和继 而化学镀锡处理以及电镀锡处理中的至少1种镀覆处理的多阶段镀覆处理。
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