[发明专利]信息记录媒体基板用玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘

说明书

技术领域

本发明涉及被用于磁盘(硬盘)等信息记录媒体的基板的玻璃、磁盘用玻璃基板及磁盘。

背景技术

作为信息记录媒体用基板，特别是作为磁盘用基板，玻璃基板被广泛使用，已知以摩尔％表示的组成含有65.4％的SiO₂、8.6％的Al₂O₃、12.5％的Li₂O、10.5％的Na₂O、3.0％的ZrO₂的市售玻璃。该市售玻璃经化学强化处理后使用。

另一方面，在专利文献1中揭示了未进行化学强化处理的磁盘用基板玻璃。

[专利文献1]日本专利特开2002-358626公报(表1～14)

发明内容

作为磁盘用玻璃基板，要求其在库存中表面性状不发生显著变化，在所述基板上形成的底膜、磁性膜、保护膜等膜不易剥离，即，要求其具备耐候性。Li、Na、K等碱金属成分作为玻璃的熔融促进剂被广泛使用，但这些成分被空气中的水分选择性地从玻璃提取，最终与空气中的二氧化碳或二氧化硫等成分反应，作为碱金属碳酸盐或碱金属硫酸盐附着在玻璃表面(白色痕迹)，因此必须防止该反应的发生。

此外，如果碱金属成分扩散至磁性膜，则易引起记录的信息消失等现象，因此存在作为记录媒体的可靠性明显下降的问题，其中Na被认为最容易扩散至磁性膜。这是因为Na与Li相比，其电场强度(相对于离子半径的电荷强度)小，与K相比，其离子半径小，因此它是相对容易移动的离子。

本发明者认为在耐候性试验中Na的析出多的玻璃引发所述问题，因此以解决该问题为目的完成了本发明。

本发明提供信息记录媒体基板用玻璃，该玻璃以基于下述氧化物的摩尔％表示，含有61～66％的SiO₂、11.5～17％的Al₂O₃、8～16％的Li₂O、2～8％的Na₂O、2.5～8％的K₂O、0～6％的MgO、0～4％的TiO₂和0～3％的ZrO₂，Al₂O₃+MgO+TiO₂为12％以上，Li₂O+Na₂O+K₂O为16～23％，含有B₂O₃时其含量不足1％。

例如含有0～6％的MgO是指MgO并不是必须成分，但可在不超过6％的范围内含有该成分。

此外，还提供如下的所述信息记录媒体基板用玻璃：含有1种以上选自CaO、SrO及BaO的碱土类金属氧化物时，这些碱土类金属氧化物的合计含量为1％以下。

此外，还提供不含B₂O₃的所述信息记录媒体基板用玻璃。

另外，还提供由所述信息记录媒体基板用玻璃形成的磁盘用玻璃基板。

另外，还提供在所述磁盘用玻璃基板上形成有磁记录层的磁盘。

本发明者对所述市售的化学强化玻璃进行了后述的耐候性试验后发现，Na析出量C_Na为0.84nmol/cm²，Li、Na、K的析出量合计C_Li+C_Na+C_K为3.5nmol/cm²(后述的例32)，未实施化学强化的玻璃的C_Na为3.2nmol/cm²，C_Li+C_Na+C_K为18.3nmol/cm²(后述的例33)，明确未实施化学强化的玻璃的耐候性并不高，通过化学强化处理改善了耐候性。即，该玻璃被认为通过化学强化处理才可作为磁盘用玻璃基板使用，其理由是随着化学强化处理的进行在玻璃表面离子半径大的碱金属成分增加，移动度下降。但是，化学强化处理存在因工序增加而导致成本提高、因化学强化处理而污垢易附着于基板表面等问题。此外，该化学强化玻璃的Na析出量并不少，因此向磁性膜的扩散增加，可能会导致可靠性的下降。