[发明专利]用于冷却磁共振成像设备的发热构件的热管理系统无效
| 申请号: | 200810173883.0 | 申请日: | 2008-11-13 |
| 公开(公告)号: | CN101435855A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
| 发明(设计)人: | T·伊科斯;M·阿里克;Y·V·尤特卡;B·C·C·阿姆 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
| 主分类号: | G01R33/28 | 分类号: | G01R33/28;G01R33/385 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥夌;曹 若 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 冷却 磁共振 成像 设备 发热 构件 管理 系统 | ||
1.一种用于冷却磁共振成像(MRI)设备(10)的发热构件(50,56)的热管理系统(70),所述系统(70)包括至少一个热管(72),所述热管(72)具有与所述磁共振成像设备(10)的发热构件(50,56)相邻的第一端(90),其中,所述至少一个热管(72)的第一端(90)从所述发热构件(50,56)去除热。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述发热构件包括所述MRI设备(10)的梯度线圈组件(50)。
3.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述至少一个热管(72)布置成大致沿着所述MRI设备(10)的水平轴线(73)和竖直轴线(75)中的一条。
4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统(70)还包括用于从所述至少一个热管(72)的第二端(92)去除热的散热器(94)。
5.根据权利要求4所述的系统,其特征在于,所述散热器(94)布置在歧管(96)内,所述歧管(96)具有在其中通过的冷却剂。
6.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述至少一个热管(72)的第一端(90)埋置在环氧材料(55)中。
7.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述系统(70)还包括由导热材料制成的模块(106),其中,所述至少一个热管(106)安装在所述模块(106)上。
8.一种热管理系统(70),包括:
至少一个热管(72),其具有第一端(90)和第二端(92),所述至少一个热管(72)的第一端(90)邻近磁共振成像(MRI)设备(10)的梯度线圈(54);和
散热器(94),其可操作地联接到所述至少一个热管(72)上。
9.根据权利要求8所述的系统,其特征在于,所述至少一个热管(72)布置成大致沿着所述MRI设备(10)的水平轴线(73)和竖直轴线(75)中的一条。
10.根据权利要求9所述的系统,其特征在于,所述散热器(94)包括可操作地联接到所述至少一个热管(72)的第二端(92)上的散热片。
11.根据权利要求8所述的系统,其特征在于,所述系统(70)还包括具有在其中通过的冷却剂的歧管(96)。
12.根据权利要求11所述的系统,其特征在于,所述散热器(94)布置在所述歧管(96)内。
13.根据权利要求11所述的系统,其特征在于,所述至少一个热管(72)的第二端(92)布置在所述歧管(96)内。
14.根据权利要求8所述的系统,其特征在于,所述散热器(94)定位成与所述梯度线圈(54)相邻,以便从所述梯度线圈(54)中去除热。
15.一种用于磁共振成像(MRI)设备(10)的热管理系统(70),包括至少一个热管(72),其中,所述至少一个热管(72)还包括与所述MRI设备(10)的梯度线圈(54)相邻的蒸发器段(100),在所述蒸发器段(100)中,来自所述梯度线圈(54)的热在所述至少一个热管(72)中引起蒸发。
16.根据权利要求15所述的系统,其特征在于,所述至少一个热管(72)还包括布置在所述梯度线圈(54)之外的绝热段(102),在所述绝热段(102)中很少发生或者不发生自所述至少一个热管(72)的热传递。
17.根据权利要求16所述的系统,其特征在于,所述至少一个热管(72)还包括冷凝器段(104),在所述冷凝器段(104)中,来自所述梯度线圈(54)的热在所述至少一个热管(72)内被冷凝。
18.根据权利要求15所述的系统,其特征在于,所述至少一个热管(72)布置成大致沿着所述MRI设备(10)的水平轴线(73)和竖直轴线(75)中的一条。
19.根据权利要求15所述的系统,其特征在于,所述系统(70)还包括可操作地联接到所述至少一个热管(72)上的散热器(94)。
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