[发明专利]防垢的缩合固化的有机基聚硅氧烷组合物,制备方法和水下结构有效
| 申请号： | 200810173848.9 | 申请日： | 2008-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN101440256A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | 坂本隆文;佐藤德夫 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/04 | 分类号： | C09D183/04;C09D5/16;C09D7/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 任宗华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 缩合 固化 有机 基聚硅氧烷 组合 制备 方法 水下 结构 | ||
1.制备防垢的缩合固化的有机基聚硅氧烷组合物的方法，所述组 合物包括：
(A)具有取代或未取代的单价烃基、不含与硅原子键合的缩合固化 的反应性基团的二有机基聚硅氧烷，
(B)二氧化硅，
(C)在分子内具有至少两个与硅原子键合的羟基和/或可水解基团 的二有机基聚硅氧烷，和
(D)在分子内具有至少两个可水解基团的硅烷和/或其部分水解的 缩合物，
所述方法包括下述步骤：通过在50℃到小于组分(A)和(B)的分解温 度下加热将一部分或所有组分(A)与一部分或所有组分(B)预混，形成预 混物，然后使该预混物与其余组分(A)、其余组分(B)、组分(C)和(D)混 合。
2.权利要求1的方法，其中组分(B)包括BET比表面积为至少10m2/g 的亲水和/或疏水二氧化硅。
3.权利要求1的方法，其中组分(C)是具有通式(1)的二有机基聚 硅氧烷，
此处R独立地为取代或未取代的单价烃基，A独立地为氧原子或1 -8个碳原子的二价烃基，Y独立地为羟基或可水解基团，m为整数0- 2，和n的数值使得该二有机基聚硅氧烷在25℃下的粘度为20- 1000000mPa·s。
4.权利要求1的方法，其中组分(D)是具有通式(2)的硅烷和/ 或其部分水解缩合物：
R1aSiX4-a (2)
其中R1独立地为1-6个碳原子的取代或未取代的单价烃基，X独 立地为可水解基团，和a是整数0-2。
5.通过权利要求1的方法制备的防垢的缩合固化的有机基聚硅氧 烷组合物。
6.用权利要求5的防垢的缩合固化的有机基聚硅氧烷组合物涂布的 固化状态下的水下结构。
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